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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第263位 162件
（
2014年： 0件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第236位 126件
（2014年： 0件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2015-537365 | バッテリセパレータ上のセラミック被覆 | 2015年12月24日 | |
| 特表 2015-536253 | 振動が制御される基板ハンドリングロボット、システム及び方法 | 2015年12月21日 | |
| 特表 2015-536575 | ３つのゾーンからなるキャリアヘッドおよびフレキシブル膜 | 2015年12月21日 | |
| 特開 2015-230837 | 加熱装置及びこれを用いた半導体製造装置 | 2015年12月21日 | |
| 特表 2015-536042 | 閉ループ制御を有する底部および側部プラズマ同調 | 2015年12月17日 | |
| 特表 2015-536043 | 基板処理システムにおける温度制御 | 2015年12月17日 | |
| 特表 2015-536048 | 改善されたエッジリングリップ | 2015年12月17日 | |
| 特表 2015-535387 | 薄膜電気化学デバイスのパターニングのための回折光学素子及び方法 | 2015年12月10日 | |
| 特開 2015-216390 | ガス導入開口を備えた基板支持体 | 2015年12月 3日 | |
| 特開 2015-216399 | 多数の光ヘッドからのスペクトルの収集 | 2015年12月 3日 | |
| 特表 2015-533928 | 堆積プロセスの同期のための方法および装置 | 2015年11月26日 | |
| 特表 2015-534261 | トレンチ側壁の平滑化のためのシリコンエッチング方法 | 2015年11月26日 | |
| 特表 2015-534264 | 基板処理システム及び基板を処理する方法 | 2015年11月26日 | |
| 特表 2015-534265 | 低コストの流動性を有する誘電体膜 | 2015年11月26日 | |
| 特表 2015-534283 | カスタマイズ可能な流れの注入を伴うエピタキシャルチャンバ | 2015年11月26日 |
162 件中 1-15 件を表示
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2015-537365 2015-536253 2015-536575 2015-230837 2015-536042 2015-536043 2015-536048 2015-535387 2015-216390 2015-216399 2015-533928 2015-534261 2015-534264 2015-534265 2015-534283
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