特許ランキング - 出願人詳細情報 -

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

※ ログインすれば出願人(アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2015年出願公開件数ランキング　　　第263位　162件（2014年：　0件）

　■　2015年特許取得件数ランキング　　　第236位　126件（2014年：　0件）

（ランキング更新日：2025年5月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2015-537365	バッテリセパレータ上のセラミック被覆	2015年12月24日
特表 2015-536253	振動が制御される基板ハンドリングロボット、システム及び方法	2015年12月21日
特表 2015-536575	３つのゾーンからなるキャリアヘッドおよびフレキシブル膜	2015年12月21日
特開 2015-230837	加熱装置及びこれを用いた半導体製造装置	2015年12月21日
特表 2015-536042	閉ループ制御を有する底部および側部プラズマ同調	2015年12月17日
特表 2015-536043	基板処理システムにおける温度制御	2015年12月17日
特表 2015-536048	改善されたエッジリングリップ	2015年12月17日
特表 2015-535387	薄膜電気化学デバイスのパターニングのための回折光学素子及び方法	2015年12月10日
特開 2015-216390	ガス導入開口を備えた基板支持体	2015年12月 3日
特開 2015-216399	多数の光ヘッドからのスペクトルの収集	2015年12月 3日
特表 2015-533928	堆積プロセスの同期のための方法および装置	2015年11月26日
特表 2015-534261	トレンチ側壁の平滑化のためのシリコンエッチング方法	2015年11月26日
特表 2015-534264	基板処理システム及び基板を処理する方法	2015年11月26日
特表 2015-534265	低コストの流動性を有する誘電体膜	2015年11月26日
特表 2015-534283	カスタマイズ可能な流れの注入を伴うエピタキシャルチャンバ	2015年11月26日

162 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2015-537365 2015-536253 2015-536575 2015-230837 2015-536042 2015-536043 2015-536048 2015-535387 2015-216390 2015-216399 2015-533928 2015-534261 2015-534264 2015-534265 2015-534283

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数