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エフ・イ−・アイ・カンパニー
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1203位 22件
（
2014年：第986位 28件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1019位 20件
（
2014年：第1392位 18件）
（ランキング更新日：2026年2月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5820552 | 集束イオン・ビーム・システムおよびそのビーム品質を改善する方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5805536 | 局所領域ナビゲーション用の高精度ビーム配置 | 2015年11月 4日 | |
| 特許 5794990 | 分散イオン源加速カラム | 2015年10月14日 | |
| 特許 5784953 | 画像上または撮像されたオブジェクト上で動作を実行する方法、画像またはオブジェクト上で反復的な動作を実行する方法、幾何学的情報と非幾何学的情報をグラフィック図形に関連付けるステップを含む動作を制御する方法、計測プランを含む方法およびコンピュータ可読媒体 | 2015年 9月24日 | |
| 特許 5774269 | マルチステージ・ガス・カスケード増幅器 | 2015年 9月 9日 | |
| 特許 5758577 | 高圧荷電粒子ビーム・システム | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5756584 | レーザ・アブレーション微細機械加工用の荷電粒子ビーム・マスキング | 2015年 7月29日 | |
| 特許 5756585 | 組合せレーザおよび荷電粒子ビーム・システム | 2015年 7月29日 | |
| 特許 5744394 | 電子顕微鏡用Ｘ線検出器 | 2015年 7月 8日 | |
| 特許 5744454 | ユーザが選択可能な複数の動作モードを有する荷電粒子ビーム・システム | 2015年 7月 8日 | |
| 特許 5744727 | レーザ機械加工のための方法および装置 | 2015年 7月 8日 | |
| 特許 5744821 | 電子顕微鏡用ユーザ・インタフェース | 2015年 7月 8日 | |
| 特許 5711204 | サンプル抽出および取り扱いのための方法および装置 | 2015年 4月30日 | |
| 特許 5698885 | Ｘ線分光法用の微量熱量測定 | 2015年 4月 8日 | |
| 特許 5694626 | 構造の３次元粗さを測定する方法 | 2015年 4月 1日 |
20 件中 1-15 件を表示
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5820552 5805536 5794990 5784953 5774269 5758577 5756584 5756585 5744394 5744454 5744727 5744821 5711204 5698885 5694626
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