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エフ・イ−・アイ・カンパニー
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（
2016年：第1239位 20件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第872位 25件
（
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エフ・イ−・アイ・カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6238978 | 多種イオン源 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6238570 | プラズマ・イオン源に対する改良された画像化および処理 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6227257 | 自動化されたイオン・ビームのアイドリング | 2017年11月 8日 | |
| 特許 6224710 | 環境制御型ＳＥＭガス注入システム | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6224612 | 断面観察薄片の裏側薄化用の高スループットＴＥＭ調製プロセスおよびハードウェア | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6224595 | 顕微鏡デバイス | 2017年11月 1日 | |
| 特許 6219019 | 荷電粒子ビーム・システムにおいて大電流モードと小電流モードとを高速に切り替える方法 | 2017年10月25日 | |
| 特許 6199979 | 傾斜ミリング保護のためのバルク付着 | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6199978 | 高アスペクト比構造体の分析 | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6199564 | 低エネルギー・イオン・ビーム・エッチング | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6199561 | 電界放出源の放出パラメータの決定 | 2017年 9月20日 | |
| 特許 6196052 | 複数ガス注入システム | 2017年 9月13日 | |
| 特許 6192695 | 自動スライス・アンド・ビュー下部切削 | 2017年 9月 6日 | |
| 特許 6188792 | ＴＥＭ観察用の薄片の調製 | 2017年 8月30日 | |
| 特許 6188702 | 試料ブロック・ホルダ | 2017年 8月30日 |
25 件中 1-15 件を表示
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6238978 6238570 6227257 6224710 6224612 6224595 6219019 6199979 6199978 6199564 6199561 6196052 6192695 6188792 6188702
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