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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッド
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第886位 33件
（
2018年：第993位 27件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第1210位 15件
（2018年：第1700位 10件）
（ランキング更新日：2025年2月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2019-72835 | フランジ付き光学的終了点検出窓及びそれを含むＣＭＰ用研磨パッド | 2019年 5月16日 | |
| 特表 2019-512172 | ケミカルメカニカルポリッシング方法 | 2019年 5月 9日 | |
| 特開 2019-70112 | 浅溝分離に使用するための水性シリカスラリー及びアミンカルボン酸組成物並びにその使用方法 | 2019年 5月 9日 | |
| 特開 2019-70113 | 浅溝分離に使用するための水性低砥粒シリカスラリー及びアミンカルボン酸組成物並びにその製造方法及び使用方法 | 2019年 5月 9日 | |
| 特開 2019-70114 | 研磨における選択的窒化物除去のための水性アニオン性官能性シリカスラリー及びアミンカルボン酸組成物並びにその使用方法 | 2019年 5月 9日 | |
| 特開 2019-65274 | 研磨における選択的窒化物除去のための水性シリカスラリー及びアミンカルボン酸組成物並びにその使用方法 | 2019年 4月25日 | |
| 特開 2019-56108 | シャロートレンチアイソレーションにおいて使用するための水性シリカスラリー組成物、及びそれらの使用方法 | 2019年 4月11日 | |
| 特開 2019-57710 | コバルト用ケミカルメカニカルポリッシング方法 | 2019年 4月11日 | |
| 特開 2019-34402 | 高速ＣＭＰ研磨法 | 2019年 3月 7日 | |
| 特開 2019-36712 | シャロートレンチアイソレーション用の水性シリカスラリー組成物とその使用方法 | 2019年 3月 7日 | |
| 特開 2019-36714 | タングステンのための化学的機械的研磨法 | 2019年 3月 7日 | |
| 特開 2019-30956 | 制御された滞留ＣＭＰ研磨法 | 2019年 2月28日 | |
| 特開 2019-29660 | 調整可能な選択性を有する低砥粒ＣＭＰスラリー組成物 | 2019年 2月21日 | |
| 特開 2019-22929 | 均一なＣＭＰ研磨方法 | 2019年 2月14日 | |
| 特開 2019-22930 | 台形ＣＭＰ溝パターン | 2019年 2月14日 |
33 件中 16-30 件を表示
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2019-72835 2019-512172 2019-70112 2019-70113 2019-70114 2019-65274 2019-56108 2019-57710 2019-34402 2019-36712 2019-36714 2019-30956 2019-29660 2019-22929 2019-22930
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