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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第886位 33件
(2018年:第993位 27件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第1210位 15件
(2018年:第1700位 10件)
(ランキング更新日:2025年6月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2019-22931 | 偏倚されたパルスCMP溝パターン | 2019年 2月14日 | |
特開 2019-12817 | 改善された除去速度及び平坦化のためのケミカルメカニカルポリッシングパッド | 2019年 1月24日 | |
特開 2019-9439 | 緩衝CMP研磨溶液 | 2019年 1月17日 |
33 件中 31-33 件を表示
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2019-22931 2019-12817 2019-9439
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6月16日(月) - 東京 大田
6月17日(火) -
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6月18日(水) -
6月18日(水) -
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6月19日(木) -
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6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) -
6月20日(金) - 愛知 名古屋市
6月16日(月) - 東京 大田
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