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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第192位 245件
(2018年:第217位 201件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第158位 175件
(2018年:第199位 150件)
(ランキング更新日:2025年2月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6571008 | 導電性ナノファイバーの製造方法 | 2019年 9月 4日 | |
特許 6571524 | 横電界駆動型液晶表示素子用液晶配向膜を有する基板の製造方法 | 2019年 9月 4日 | |
特許 6565685 | シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法 | 2019年 8月28日 | |
特許 6565686 | シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法 | 2019年 8月28日 | |
特許 6565687 | シクロブタンテトラカルボン酸誘導体の製造方法 | 2019年 8月28日 | |
特許 6566032 | 電荷輸送性ワニス及び有機エレクトロルミネッセンス素子 | 2019年 8月28日 | |
特許 6566217 | イソキサゾリン置換ベンズアミド化合物の結晶性多形体を含有する懸濁状組成物 | 2019年 8月28日 | |
特許 6561833 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2019年 8月21日 | |
特許 6561834 | 液晶配向処理剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2019年 8月21日 | |
特許 6561984 | 3環性化合物及びJAK阻害剤 | 2019年 8月21日 | |
特許 6562213 | 光学活性5−ヒドロキシ−3−ケトエステル類の製造方法 | 2019年 8月21日 | |
特許 6562220 | フェニル基含有クロモファーを有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物 | 2019年 8月21日 | |
特許 6562221 | スルホニル結合を有するシラン化合物の製造方法 | 2019年 8月21日 | |
特許 6558074 | 熱硬化性樹脂組成物および位相差フィルム | 2019年 8月14日 | |
特許 6558245 | 横電界駆動方式用の液晶配向剤、液晶配向膜、及びそれを用いた液晶表示素子 | 2019年 8月14日 |
187 件中 61-75 件を表示
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6571008 6571524 6565685 6565686 6565687 6566032 6566217 6561833 6561834 6561984 6562213 6562220 6562221 6558074 6558245
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2月25日(火) -
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