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株式会社フジミインコーポレーテッド
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（
2020年：第518位 63件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第536位 44件
（2020年：第488位 48件）
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株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6880047 | 表面処理組成物 | 2021年 6月 2日 | |
| 特許 6864519 | 研磨用組成物、磁気ディスク基板の製造方法および磁気ディスクの研磨方法 | 2021年 4月28日 | |
| 特許 6859146 | 溶射用スラリー | 2021年 4月14日 | |
| 特許 6859147 | 溶射用スラリー | 2021年 4月14日 | |
| 特許 6859148 | 溶射皮膜の形成方法 | 2021年 4月14日 | |
| 特許 6854683 | シリカゾルの製造方法 | 2021年 4月 7日 | |
| 特許 6847692 | 研磨用組成物 | 2021年 3月24日 | |
| 特許 6849564 | 表面処理組成物およびこれを用いた表面処理方法 | 2021年 3月24日 | |
| 特許 6849662 | 研磨用組成物 | 2021年 3月24日 | |
| 特許 6832341 | 表面処理組成物、表面処理組成物の製造方法、表面処理方法および半導体基板の製造方法 | 2021年 2月24日 | |
| 特許 6829191 | 研磨方法 | 2021年 2月10日 | |
| 特許 6829192 | 研磨方法 | 2021年 2月10日 | |
| 特許 6825957 | 研磨用組成物 | 2021年 2月 3日 | |
| 特許 6815257 | 研磨用組成物および磁気ディスク基板の製造方法 | 2021年 1月20日 | |
| 特許 6806765 | 金属を含む層を有する研磨対象物の研磨用組成物 | 2021年 1月 6日 |
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6880047 6864519 6859146 6859147 6859148 6854683 6847692 6849564 6849662 6832341 6829191 6829192 6825957 6815257 6806765
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