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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第508位 66件
(2015年:第497位 67件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第446位 64件
(2015年:第491位 50件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2016-128604 | ホルムアルデヒド不含無電解金属メッキ組成物及び方法 | 2016年 7月14日 | |
特開 2016-128902 | フォトレジストパターントリミング組成物及び方法 | 2016年 7月14日 | |
特開 2016-125056 | 誘導自己組織化のためのコポリマー調合物、その製造方法、及びそれを含む物品 | 2016年 7月11日 | |
特開 2016-126333 | フォトリソグラフィ方法 | 2016年 7月11日 | |
特開 2016-121131 | シリル化ポリアリーレン | 2016年 7月 7日 | |
特開 2016-117946 | 環境に優しい金電気めっき組成物及び方法 | 2016年 6月30日 | |
特開 2016-106073 | オニウム化合物およびその合成方法 | 2016年 6月16日 | |
特開 2016-106181 | 鉛を含まないスズ合金電気めっき組成物および方法 | 2016年 6月16日 | |
特開 2016-104849 | 光酸発生官能基及び塩基溶解度向上官能基を有する繰り返し単位を含むポリマー、関連フォトレジスト組成物、ならびに電子デバイスを形成する方法 | 2016年 6月 9日 | |
特開 2016-104904 | プラスチゾルコーティングされたメッキ治具のための金属化防止剤 | 2016年 6月 9日 | |
特開 2016-104905 | 貫通孔の充填 | 2016年 6月 9日 | |
特開 2016-95497 | フォトレジスト組成物及び電子デバイスを形成する関連方法 | 2016年 5月26日 | |
特開 2016-95504 | ディスプレイデバイスの製造 | 2016年 5月26日 | |
特開 2016-91016 | パターン形成方法 | 2016年 5月23日 | |
特開 2016-91017 | フォトレジスト保護膜組成物 | 2016年 5月23日 |
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2016-128604 2016-128902 2016-125056 2016-126333 2016-121131 2016-117946 2016-106073 2016-106181 2016-104849 2016-104904 2016-104905 2016-95497 2016-95504 2016-91016 2016-91017
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6月16日(月) - 東京 大田
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6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月19日(木) - 大阪 大阪市
6月19日(木) -
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) -
6月20日(金) - 愛知 名古屋市
6月16日(月) - 東京 大田
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