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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第579位 62件 (2016年:第508位 66件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第348位 80件 (2016年:第446位 64件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2017-88866 | 熱酸発生剤及びフォトレジストパターントリミング組成物ならびに方法 | 2017年 5月25日 | |
特開 2017-88867 | ブロック共重合体及びパターン処理組成物ならびに方法 | 2017年 5月25日 | |
特開 2017-83826 | 光感応性酸発生剤およびそれらを含むフォトレジスト | 2017年 5月18日 | |
特開 2017-78846 | オーバーコートされたフォトレジストと共に使用するためのコーティング組成物 | 2017年 4月27日 | |
特開 2017-75323 | 表面活性添加剤およびこれを含むフォトレジスト組成物 | 2017年 4月20日 | |
特開 2017-61452 | 光酸発生化合物およびそれを含むフォトレジスト組成物、そのフォトレジストを含むコーティングされた物品、並びに物品を製造する方法 | 2017年 3月30日 | |
特開 2017-61487 | めっき浴および方法 | 2017年 3月30日 | |
特開 2017-57196 | アリールシクロブテン | 2017年 3月23日 | |
特開 2017-53031 | 酸性銅電気めっき浴ならびに低内部応力及び良好な延性の銅析出物を電気めっきするための方法 | 2017年 3月16日 | |
特開 2017-53032 | ビスマス電気めっき浴及び基材上にビスマスを電気めっきする方法 | 2017年 3月16日 | |
特開 2017-48366 | 安定化ナノ粒子、及び安定化ナノ粒子の分散、及び適用方法 | 2017年 3月 9日 | |
特開 2017-49580 | コンタクトホール形成方法 | 2017年 3月 9日 | |
特開 2017-49599 | 複数の酸発生剤化合物を含むフォトレジスト | 2017年 3月 9日 | |
特開 2017-39937 | 感光性コポリマー、このコポリマーを含むフォトレジスト組成物、およびこれから形成される物品 | 2017年 2月23日 | |
特開 2017-36435 | ナノ粒子ポリマーレジスト | 2017年 2月16日 |
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2017-88866 2017-88867 2017-83826 2017-78846 2017-75323 2017-61452 2017-61487 2017-57196 2017-53031 2017-53032 2017-48366 2017-49580 2017-49599 2017-39937 2017-36435
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
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11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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