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ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

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  2017年 出願公開件数ランキング    第579位 62件 下降2016年:第508位 66件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第348位 80件 上昇2016年:第446位 64件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2017-36440 コポリマー及び関連する層状物品、ならびに装置形成方法 2017年 2月16日
特開 2017-36441 ブロックコポリマー及び関連フォトレジスト組成物ならびに電子デバイスの形成方法 2017年 2月16日
特開 2017-36499 ピリジルアルキルアミンとビスエポキシドとの反応生成物を含有する電気銅めっき浴からフォトレジスト画定フィーチャを電気めっきする方法 2017年 2月16日
特開 2017-36500 イミダゾールとビスエポキシド化合物との反応生成物を含有する電気銅めっき浴からフォトレジスト画定フィーチャを電気めっきする方法 2017年 2月16日
特開 2017-36501 アルファアミノ酸とビスエポキシドとの反応生成物を含有する電気銅めっき浴からフォトレジスト画定フィーチャを電気めっきする方法 2017年 2月16日
特開 2017-36502 イミダゾール化合物と、ビスエポキシドと、ハロベンジル化合物との反応生成物を含有する電気銅めっき浴からフォトレジスト画定フィーチャを電気めっきする方法 2017年 2月16日
特開 2017-31422 ポリマー組成物、このポリマー組成物を含むフォトレジスト、およびこのフォトレジストを含むコーティングされた物品 2017年 2月 9日
特開 2017-25073 光酸発生剤、この光酸発生剤を含むフォトレジスト、およびこれを含むコーティングされた物品 2017年 2月 2日
特開 2017-19997 酸発生剤化合物及びそれを含むフォトレジスト 2017年 1月26日
特開 2017-20000 湿式剥離性シリコン含有反射防止剤 2017年 1月26日
特開 2017-21352 現像剤組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法 2017年 1月26日
特開 2017-14193 ポリアリーレン材料 2017年 1月19日
特開 2017-16104 パターン処理のための組成物及び方法 2017年 1月19日
特開 2017-8068 塩基反応性光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト 2017年 1月12日
特開 2017-10015 パターン処理のための組成物及び方法 2017年 1月12日

77 件中 61-75 件を表示

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2017-36440 2017-36441 2017-36499 2017-36500 2017-36501 2017-36502 2017-31422 2017-25073 2017-19997 2017-20000 2017-21352 2017-14193 2017-16104 2017-8068 2017-10015

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