ホーム > 特許ランキング > ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. > 2018年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2018年 出願公開件数ランキング 第476位 68件
(
2017年:第579位 62件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第341位 83件
(
2017年:第348位 80件)
(ランキング更新日:2025年12月5日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2018-92170 | 下層のための芳香族樹脂 | 2018年 6月14日 | |
| 特表 2018-514906 | 透明感圧膜組成物 | 2018年 6月 7日 | |
| 特表 2018-513282 | 電気めっき浴の添加剤としてのモノアミン及びビス無水物の反応生成物とのジアミンの反応生成物 | 2018年 5月24日 | |
| 特開 2018-80157 | 光酸発生化合物及び関連ポリマー、フォトレジスト組成物、ならびにフォトレジストレリーフ像の形成方法 | 2018年 5月24日 | |
| 特開 2018-72831 | フォトレジストトップコート組成物及びフォトレジスト組成物を処理する方法 | 2018年 5月10日 | |
| 特開 2018-72833 | トップコート組成物及びパターン形成方法 | 2018年 5月10日 | |
| 特開 2018-72835 | フッ素化熱酸発生剤を含有するトップコート組成物 | 2018年 5月10日 | |
| 特開 2018-72843 | 塩基反応性成分を含む組成物およびフォトリソグラフィーのための方法 | 2018年 5月10日 | |
| 特開 2018-65855 | 光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2018年 4月26日 | |
| 特開 2018-66011 | 反射防止被膜用の組成物 | 2018年 4月26日 | |
| 特開 2018-66985 | 双性イオン性光破壊性クエンチャー | 2018年 4月26日 | |
| 特表 2018-511080 | ナノ構造材料の方法及び素子 | 2018年 4月19日 | |
| 特開 2018-52923 | 光酸発生化合物、それ由来のポリマー、光酸発生化合物またはポリマーを含むフォトレジスト組成物、及びフォトレジストレリーフ像を形成する方法 | 2018年 4月 5日 | |
| 特開 2018-53360 | 選択的な金属被覆のための遮断コーティング | 2018年 4月 5日 | |
| 特開 2018-54609 | ガスセンサ及びその製造方法 | 2018年 4月 5日 |
78 件中 46-60 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2018-92170 2018-514906 2018-513282 2018-80157 2018-72831 2018-72833 2018-72835 2018-72843 2018-65855 2018-66011 2018-66985 2018-511080 2018-52923 2018-53360 2018-54609
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.の知財の動向チェックに便利です。
12月6日(土) - 東京 千代田区
12月6日(土) - 東京 千代田区
12月8日(月) - 愛知 名古屋市
12月9日(火) - 大阪 大阪市
12月10日(水) - 東京 千代田区
12月10日(水) -
12月10日(水) -
12月10日(水) -
12月11日(木) -
12月11日(木) -
12月11日(木) -
12月11日(木) -
12月12日(金) -
12月12日(金) -
12月12日(金) -
12月12日(金) -
12月8日(月) - 愛知 名古屋市
東京都府中市寿町一丁目1-11 第2福井ビル5階 No.2 Fukui Bldg. 5F 1-11, Kotobukicho 1chome, Fuchu-shi Tokyo JAPAN 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都江戸川区西葛西3-13-2-501 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪府大阪市西区靱本町1丁目10番4号 本町井出ビル2F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング