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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第566位 60件
(2018年:第476位 68件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第384位 69件
(2018年:第341位 83件)
(ランキング更新日:2025年5月8日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2019-90010 | ケイ素含有下層 | 2019年 6月13日 | |
特開 2019-91038 | ギャップ充填方法 | 2019年 6月13日 | |
特表 2019-515114 | 量子ドットを封入するレオロジー改質剤 | 2019年 6月 6日 | |
特開 2019-85562 | ビニルアリールシクロブテン含有モノマーからの低温硬化性付加重合体及びその作製方法 | 2019年 6月 6日 | |
特開 2019-85563 | 窒素複素環含有モノマー及びビニルアリールシクロブテン含有モノマーからの付加重合体 | 2019年 6月 6日 | |
特開 2019-85644 | 銅電気めっき組成物及び基板上に銅を電気めっきする方法 | 2019年 6月 6日 | |
特開 2019-85645 | 銅電気めっき組成物及び基板上に銅を電気めっきする方法 | 2019年 6月 6日 | |
特開 2019-85647 | 電気めっきされた銅 | 2019年 6月 6日 | |
特表 2019-514200 | 光電子デバイス及び使用方法 | 2019年 5月30日 | |
特開 2019-81885 | イオン交換樹脂、精製方法、及びイオン性樹脂の製造方法 | 2019年 5月30日 | |
特開 2019-73689 | 他の基を用いて硬化するビス−アリールシクロブテン基含有モノマーに由来するポリマー及びその製造方法 | 2019年 5月16日 | |
特開 2019-73708 | シリコン含有下層 | 2019年 5月16日 | |
特開 2019-73729 | シリコン含有下層 | 2019年 5月16日 | |
特開 2019-70151 | コポリマー及び関連する層状物品、ならびに装置形成方法 | 2019年 5月 9日 | |
特開 2019-70159 | 変形力のある波長変換媒体 | 2019年 5月 9日 |
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2019-90010 2019-91038 2019-515114 2019-85562 2019-85563 2019-85644 2019-85645 2019-85647 2019-514200 2019-81885 2019-73689 2019-73708 2019-73729 2019-70151 2019-70159
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