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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第566位 60件
(2018年:第476位 68件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第384位 69件
(2018年:第341位 83件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2019-70191 | 安定した無電解銅めっき組成物及び基板上に銅を無電解めっきするための方法 | 2019年 5月 9日 | |
特開 2019-70192 | 安定した無電解銅めっき組成物及び基板上に銅を無電解めっきするための方法 | 2019年 5月 9日 | |
特表 2019-511609 | 量子ドットを含有する硬化性樹脂系 | 2019年 4月25日 | |
特開 2019-59755 | 光酸発生剤 | 2019年 4月18日 | |
特開 2019-52374 | めっき浴および方法 | 2019年 4月 4日 | |
特開 2019-49057 | 電気めっき浴用の添加剤としてのアミンモノマー及び飽和複素環部分を含有するポリマーの反応生成物 | 2019年 3月28日 | |
特開 2019-49701 | 酸発生剤および同剤を含むフォトレジスト | 2019年 3月28日 | |
特表 2019-507491 | ポリマー層及びそれを含有する有機電子デバイス | 2019年 3月14日 | |
特開 2019-39077 | 電気めっき浴用の添加剤としてのビス無水物及びジアミンの反応生成物 | 2019年 3月14日 | |
特表 2019-506505 | 量子ドットを含有するポリマー複合体 | 2019年 3月 7日 | |
特開 2019-35975 | 光レジスト組成物、光レジスト組成物を含むコーティングされた基材、及び電子装置を形成する方法 | 2019年 3月 7日 | |
特表 2019-505403 | ナノ構造材料の連続フロー合成 | 2019年 2月28日 | |
特開 2019-31665 | ケイ素含有下層 | 2019年 2月28日 | |
特開 2019-31688 | ブロックコポリマー及び関連フォトレジスト組成物ならびに電子デバイスの形成方法 | 2019年 2月28日 | |
特開 2019-26933 | 化学的耐性ポリマー材料のためのクロム不含エッチング溶液 | 2019年 2月21日 |
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2019-70191 2019-70192 2019-511609 2019-59755 2019-52374 2019-49057 2019-49701 2019-507491 2019-39077 2019-506505 2019-35975 2019-505403 2019-31665 2019-31688 2019-26933
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5月14日(水) - 東京 港区
5月14日(水) -
5月15日(木) - 東京 港区
5月16日(金) - 東京 千代田区
5月16日(金) -
5月16日(金) - 東京 千代田区
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