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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第1005位 27件
(2020年:第857位 32件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第787位 27件
(2020年:第516位 45件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2021-110930 | 感光性ビスマレイミド組成物 | 2021年 8月 2日 | |
特開 2021-91959 | 酸性水性二成分銀−ビスマス合金電気めっき組成物及び方法 | 2021年 6月17日 | |
特開 2021-80450 | ポリイミド−ポリアリーレンポリマー | 2021年 5月27日 | |
特開 2021-80451 | 屈折率が調節可能なポリマー | 2021年 5月27日 | |
特開 2021-75785 | 無電解銅めっき及び不動態化の阻止 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-75786 | 無電解銅めっき及び不動態化の抑制 | 2021年 5月20日 | |
特開 2021-73348 | ケイ素含有下層 | 2021年 5月13日 | |
特開 2021-66953 | 酸性水性2成分銀−ビスマス合金電気めっき組成物及び方法 | 2021年 4月30日 | |
特開 2021-66956 | 銅めっきの強化方法 | 2021年 4月30日 | |
特開 2021-63217 | ポリマー及びフォトレジスト組成物 | 2021年 4月22日 | |
特開 2021-63291 | 酸性水性銀−ニッケル合金電気めっき組成物及び方法 | 2021年 4月22日 | |
特開 2021-63980 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2021年 4月22日 | |
特開 2021-63982 | オーバーコートされたフォトレジストと共に使用するためのコーティング組成物 | 2021年 4月22日 | |
特開 2021-35718 | ナノ構造材料の連続フロー合成 | 2021年 3月 4日 | |
特開 2021-17584 | ディスプレイデバイス用のポリマー | 2021年 2月15日 |
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2021-110930 2021-91959 2021-80450 2021-80451 2021-75785 2021-75786 2021-73348 2021-66953 2021-66956 2021-63217 2021-63291 2021-63980 2021-63982 2021-35718 2021-17584
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