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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第1102位 23件
(2022年:第908位 29件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第1078位 20件
(2022年:第805位 30件)
(ランキング更新日:2025年6月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2023-92497 | フォトレジスト下層組成物 | 2023年 7月 3日 | |
特開 2023-60834 | ハードコート用途向けUV硬化樹脂組成物 | 2023年 4月28日 | |
特開 2023-51781 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023年 4月11日 | |
特開 2023-51782 | フォトレジスト下層組成物 | 2023年 4月11日 | |
特開 2023-51821 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023年 4月11日 | |
特開 2023-51836 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023年 4月11日 | |
特開 2023-51837 | ヨウ素含有酸開裂性化合物、それから誘導されるポリマー、及びフォトレジスト組成物 | 2023年 4月11日 | |
特開 2023-51872 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2023年 4月11日 | |
特開 2023-8862 | オーバーコートフォトレジスト用のコーティングされた下層 | 2023年 1月19日 |
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2023-92497 2023-60834 2023-51781 2023-51782 2023-51821 2023-51836 2023-51837 2023-51872 2023-8862
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6月16日(月) - 東京 大田