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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第12881位 1件
(2020年:第957位 28件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第701位 31件
(2020年:第716位 30件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6918100 | 半導体再配線方法 | 2021年 8月11日 | |
特許 6909858 | シャッター装置及びその制御方法、リソグラフィー装置及びその露光量制御方法 | 2021年 7月28日 | |
特許 6909919 | 対物レンズ保護装置、対物レンズシステムおよびリソグラフィ装置 | 2021年 7月28日 | |
特許 6899437 | レチクルケース | 2021年 7月 7日 | |
特許 6891295 | シリコンウェーハ吸着装置、シリコンウェーハ搬送装置、シリコンウェーハ搬送システム、及び搬送方法 | 2021年 6月18日 | |
特許 6872042 | レーザーパッケージング装置及びパッケージング方法 | 2021年 5月19日 | |
特許 6857732 | 光源の露光量を制御するためのシステム及び方法 | 2021年 4月14日 | |
特許 6856263 | 同軸マスク位置合せデバイス、フォトリトグラフィ装置および位置合せ方法 | 2021年 4月 7日 | |
特許 6847206 | ユニバーサルチップバッチボンディング装置及び方法 | 2021年 3月24日 | |
特許 6843151 | 光強度調整方法 | 2021年 3月17日 | |
特許 6831383 | レーザーアニーリング装置及びそのためのレーザーアニーリング方法 | 2021年 2月17日 | |
特許 6825089 | ワークテーブル搬入出装置 | 2021年 2月 3日 | |
特許 6807448 | 走査反射鏡振幅測定装置及び測定方法 | 2021年 1月 6日 | |
特許 6807468 | シリコンウェーハ処理装置及び方法 | 2021年 1月 6日 | |
特許 6810170 | エッジ露光装置及び方法 | 2021年 1月 6日 |
31 件中 16-30 件を表示
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6918100 6909858 6909919 6899437 6891295 6872042 6857732 6856263 6847206 6843151 6831383 6825089 6807448 6807468 6810170
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9月2日(火) - 東京 港区
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9月4日(木) -
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