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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第396位 90件
（
2015年：第339位 112件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第324位 97件
（2015年：第225位 132件）
（ランキング更新日：2024年9月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2016-512913 | 極端紫外線光源 | 2016年 5月 9日 | |
| 特開 2016-66091 | モデルベースのプロセスシミュレーション方法 | 2016年 4月28日 | |
| 特表 2016-512381 | ターゲット材料の供給および回収のための方法ならびに装置 | 2016年 4月25日 | |
| 特表 2016-512382 | レーザ生成プラズマ極端紫外線光源のターゲット | 2016年 4月25日 | |
| 特表 2016-512383 | 極端紫外線光源のビーム位置制御 | 2016年 4月25日 | |
| 特開 2016-48399 | 計算プロセス制御 | 2016年 4月 7日 | |
| 特表 2016-509688 | 静電クランプ | 2016年 3月31日 | |
| 特表 2016-509691 | リソグラフィ装置のための投影システム、ミラーおよび放射源 | 2016年 3月31日 | |
| 特表 2016-509258 | リソグラフィ装置及び方法 | 2016年 3月24日 | |
| 特表 2016-509270 | ＥＵＶリソグラフィー用の光学素子及び光学系、及びこの光学系を処理する方法 | 2016年 3月24日 | |
| 特表 2016-509343 | 極端紫外線光源用熱監視装置 | 2016年 3月24日 | |
| 特表 2016-509363 | ＥＵＶリソグラフィ装置用ビーム搬送装置 | 2016年 3月24日 | |
| 特表 2016-508236 | レチクルステージ環境におけるガス流れ最適化 | 2016年 3月17日 | |
| 特表 2016-507763 | リソグラフィ装置のための基板サポート及びリソグラフィ装置 | 2016年 3月10日 | |
| 特表 2016-507786 | 三次元パターニングデバイス用リソグラフィモデル | 2016年 3月10日 |
93 件中 61-75 件を表示
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2016-512913 2016-66091 2016-512381 2016-512382 2016-512383 2016-48399 2016-509688 2016-509691 2016-509258 2016-509270 2016-509343 2016-509363 2016-508236 2016-507763 2016-507786
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