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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第396位 90件
（
2015年：第339位 112件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第324位 97件
（2015年：第225位 132件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6052931 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6055436 | 高速自由形式ソース・マスク同時最適化方法 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6055501 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6055614 | クランプデバイス、アセンブリ、およびリソグラフィ投影装置 | 2016年12月27日 | |
| 特許 6047573 | 放射源 | 2016年12月21日 | |
| 特許 6047574 | 放射源及びリソグラフィ装置 | 2016年12月21日 | |
| 特許 6042457 | デバイス、露光装置および放射誘導方法 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6043789 | レーザ生成プラズマ光源内の緩衝ガス流安定化のためのシステム及び方法 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6043877 | パターニングデバイス支持体及びリソグラフィ装置 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6045588 | メトロロジ方法及び装置並びにデバイス製造方法 | 2016年12月14日 | |
| 特許 6037594 | ＥＵＶ光源のための駆動レーザ | 2016年12月 7日 | |
| 特許 6038989 | リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置を操作する方法 | 2016年12月 7日 | |
| 特許 6039665 | 放電生成プラズマＥＵＶ源のための電源装置 | 2016年12月 7日 | |
| 特許 6033890 | 検査装置及び方法 | 2016年11月30日 | |
| 特許 6034972 | レチクル加熱を均一に保つレチクルヒータ | 2016年11月30日 |
102 件中 1-15 件を表示
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6052931 6055436 6055501 6055614 6047573 6047574 6042457 6043789 6043877 6045588 6037594 6038989 6039665 6033890 6034972
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