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エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

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 ■ 2025年 出願公開件数ランキング    第200位 172件 (上昇2024年:第220位 162件)

 ■ 2025年 特許取得件数ランキング    第349位 78件 (下降2024年:第257位 124件)

(ランキング更新日:2026年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2025-188077 半導体検出器及びこれを製造する方法 2025年12月25日
特表 2025-542122 レチクルハンドラ遮断制振器要素 2025年12月25日
特開 2025-186275 真空チャンバをシールするためのプリント回路基板を含む検出器モジュール 2025年12月23日
特表 2025-541660 後方散乱荷電粒子のエネルギー弁別のシステム及び方法 2025年12月23日
特表 2025-541764 スーパーコンティニウム放射源 2025年12月23日
特表 2025-541525 物体ホルダ、リソグラフィツール、物体ホルダを製造する方法 2025年12月18日
特表 2025-540568 物体ホルダ及び製造方法 2025年12月16日
特表 2025-540570 荷電粒子光学デバイス、評価装置、サンプルの評価方法 2025年12月16日
特表 2025-540579 コンピュータガイド式検査機械学習モデルにおいて使用するための高密度欠陥確率マップの作成 2025年12月16日
特表 2025-540588 ファイバ製造中間生成物及びフォトニック結晶ファイバの製造方法 2025年12月16日
特表 2025-540371 クランプおよびその製造方法 2025年12月11日
特表 2025-539992 真空テーブル、及び反った基板をクランプする方法 2025年12月11日
特表 2025-540257 アライメントマークのシーケンシャルおよびパラレルな光学的検出のためのシステムおよび方法 2025年12月11日
特表 2025-540191 光学システム 2025年12月11日
特表 2025-540213 レチクル変形を決定する方法及びシステム 2025年12月11日

175 件中 1-15 件を表示

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2025-188077 2025-542122 2025-186275 2025-541660 2025-541764 2025-541525 2025-540568 2025-540570 2025-540579 2025-540588 2025-540371 2025-539992 2025-540257 2025-540191 2025-540213

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