ホーム > 特許ランキング > トーキョー エレクトロン ユーエス ホールディングス,インコーポレーテッド > 2025年 > 出願公開一覧
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第32871位 0件
(
2024年:第33742位 0件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第26521位 0件
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2024年:第27650位 0件)
(ランキング更新日:2026年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2025-542021 | 触媒強化化学気相成長法 | 2025年12月24日 | |
| 特表 2025-541119 | 高度な統合のための3次元多点圧縮接合アーム | 2025年12月18日 | |
| 特表 2025-540741 | 導電性材料の堆積方法 | 2025年12月16日 | |
| 特表 2025-540065 | 半導体デバイスを接合するためのシステム及び方法 | 2025年12月11日 | |
| 特表 2025-538433 | 高熱容量ホットプレート | 2025年11月28日 | |
| 特表 2025-536545 | 接合層及びプロセス | 2025年11月 7日 | |
| 特開 2025-166109 | ガスクラスター補助プラズマ処理 | 2025年11月 5日 | |
| 特表 2025-535592 | ラジアルプラズマ制御用の並列共振アンテナ | 2025年10月24日 | |
| 特表 2025-535202 | 光感受性有機金属酸化物上に水分バリアを形成する方法 | 2025年10月23日 | |
| 特開 2025-159084 | スピンオン膜の平坦化 | 2025年10月17日 | |
| 特表 2025-534555 | 水の結晶化を使用してケイ素酸化物に対してケイ素窒化物を選択的にエッチングする方法 | 2025年10月16日 | |
| 特表 2025-534264 | in-situ乾式現像のための方法及び装置 | 2025年10月15日 | |
| 特表 2025-533465 | パルス化バイアス位相制御を使用する、標的質量を有するイオンによる基板照射 | 2025年10月 7日 | |
| 特表 2025-531322 | 高度なプロセス特性評価のための発光分光分析 | 2025年 9月19日 | |
| 特表 2025-531480 | 誘電体エッチングのためのin-situ吸着物形成 | 2025年 9月19日 |
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2025-542021 2025-541119 2025-540741 2025-540065 2025-538433 2025-536545 2025-166109 2025-535592 2025-535202 2025-159084 2025-534555 2025-534264 2025-533465 2025-531322 2025-531480
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10月19日(月) - 大阪 中央区
生成AIを活用した技術&知財戦略の策定方法-生成AIを活用したアイデア発想とパテントマップ作成による勝てる技術&知財戦略の実践方法-
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〜発明が生まれる開発現場の知財力を強化する~一枚図解でわかる 新規性・進歩性 ──発明とは何なのかを理解して、その先のイノベーションへ!
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公正取引委員会 も注視する“不当なノウハウ流出”の現場と対策セミナー 「電子公証サービス」で証拠を残す 共同研究や取引交渉で負けない知財戦略
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