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日新イオン機器株式会社
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第1216位 24件
（
2012年：第1400位 18件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第1187位 22件
（2012年：第1784位 13件）
（ランキング更新日：2025年4月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日新イオン機器株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5375643 | ウエハ保持機構、ウエハホルダ及び静電チャック | 2013年12月25日 | |
| 特許 5370556 | イオン源電極のクリーニング方法 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5370462 | イオン源電極のクリーニング装置 | 2013年12月18日 | |
| 特許 5343835 | 反射電極構造体及びイオン源 | 2013年11月13日 | |
| 特許 5327657 | プラズマ発生装置 | 2013年10月30日 | |
| 特許 5321234 | イオン源 | 2013年10月23日 | |
| 特許 5317038 | イオン源及び反射電極構造体 | 2013年10月16日 | |
| 特許 5316899 | イオン注入方法およびイオン注入装置 | 2013年10月16日 | |
| 特許 5311140 | イオンビーム測定方法 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5311681 | イオン注入装置 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5311112 | イオン注入方法およびイオン注入装置 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5311066 | イオン注入装置 | 2013年10月 9日 | |
| 特許 5257399 | イオン源及びイオン注入装置 | 2013年 8月 7日 | |
| 特許 5233012 | イオン注入装置 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5228182 | ガス制御装置、ガス制御装置の制御方法及びそれらを用いたイオン注入装置 | 2013年 7月 3日 |
22 件中 1-15 件を表示
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5375643 5370556 5370462 5343835 5327657 5321234 5317038 5316899 5311140 5311681 5311112 5311066 5257399 5233012 5228182
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