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日新イオン機器株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第1043位 26件
（
2013年：第1216位 24件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1674位 14件
（
2013年：第1187位 22件）
（ランキング更新日：2025年4月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日新イオン機器株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5634992 | イオンビーム照射装置及びイオンビーム発散抑制方法 | 2014年12月 3日 | 共同出願 |
| 特許 5589916 | スリット電極及びこれを備えた荷電粒子ビーム発生装置 | 2014年 9月17日 | |
| 特許 5585788 | イオン注入装置 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5545452 | プラズマ閉じ込め容器およびこれを備えたイオン源 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5545287 | エネルギー線照射装置及びワーク搬送機構 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5534359 | スリット電極及びこれを備えた荷電粒子ビーム発生装置 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5527617 | イオン源 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5504980 | ウエハリフト回転機構、ステージ装置及びイオン注入装置 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5505731 | イオン源 | 2014年 5月28日 | |
| 特許 5495138 | イオン源 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5500500 | 非対称なアインツェルレンズを有するビーム偏向器を備えたイオン注入装置 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5477133 | ウェーハハンドリング方法およびイオン注入装置 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5477652 | イオン注入方法及びイオン注入装置 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5446674 | プラズマ源およびそれを備えるイオン源 | 2014年 3月19日 |
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5634992 5589916 5585788 5545452 5545287 5534359 5527617 5504980 5505731 5495138 5500500 5477133 5477652 5446674
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