日新イオン機器株式会社

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　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第1586位　15件（2015年：第1659位　14件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第1730位　11件（2015年：第1611位　11件）

（ランキング更新日：2025年12月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6048829	イオン源	2016年12月21日
特許 6036743	イオン注入装置	2016年11月30日
特許 6025047	イオン注入装置およびイオン注入装置の運転方法	2016年11月16日
特許 6028515	イオンビーム照射装置	2016年11月16日
特許 5974645	イオンビーム照射装置	2016年 8月23日
特許 5975418	イオン注入方法	2016年 8月23日
特許 5971556	静電チャックおよび静電チャックモジュール	2016年 8月17日
特許 5950164	基板ホルダ	2016年 7月13日
特許 5912455	基板割れ検出方法および当該基板割れ検出方法に基づくイオンビーム照射装置の運転方法	2016年 4月27日
特許 5903930	基板搬送装置及び当該基板搬送装置を用いた半導体製造装置	2016年 4月13日
特許 5863153	イオン注入装置	2016年 2月16日

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6048829 6036743 6025047 6028515 5974645 5975418 5971556 5950164 5912455 5903930 5863153

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