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日新イオン機器株式会社

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 ■ 2016年 出願公開件数ランキング    第1550位 15件 (上昇2015年:第1676位 13件)

 ■ 2016年 特許取得件数ランキング    第1730位 11件 (下降2015年:第1610位 11件)

(ランキング更新日:2026年10月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6048829 イオン源 2016年12月21日
特許 6036743 イオン注入装置 2016年11月30日
特許 6025047 イオン注入装置およびイオン注入装置の運転方法 2016年11月16日
特許 6028515 イオンビーム照射装置 2016年11月16日
特許 5974645 イオンビーム照射装置 2016年 8月23日
特許 5975418 イオン注入方法 2016年 8月23日
特許 5971556 静電チャックおよび静電チャックモジュール 2016年 8月17日
特許 5950164 基板ホルダ 2016年 7月13日
特許 5912455 基板割れ検出方法および当該基板割れ検出方法に基づくイオンビーム照射装置の運転方法 2016年 4月27日
特許 5903930 基板搬送装置及び当該基板搬送装置を用いた半導体製造装置 2016年 4月13日
特許 5863153 イオン注入装置 2016年 2月16日

11 件中 1-11 件を表示

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6048829 6036743 6025047 6028515 5974645 5975418 5971556 5950164 5912455 5903930 5863153

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