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日新イオン機器株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1659位 14件
（
2014年：第1043位 26件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1611位 11件
（
2014年：第1674位 14件）
（ランキング更新日：2025年12月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日新イオン機器株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5824078 | イオンビーム照射装置 | 2015年11月25日 | |
| 特許 5811256 | エネルギー線照射システム | 2015年11月11日 | |
| 特許 5804444 | イオン注入方法 | 2015年11月 4日 | |
| 特許 5800286 | イオン注入装置 | 2015年10月28日 | |
| 特許 5733333 | エネルギー線照射システム | 2015年 6月10日 | |
| 特許 5704402 | 基板保持部材および当該半導体保持部材への半導体基板の取り付け位置調整方法 | 2015年 4月22日 | |
| 特許 5688709 | 薄膜半導体基板の製造方法 | 2015年 3月25日 | |
| 特許 5672297 | イオンビーム照射装置およびイオンビーム照射装置の運転方法 | 2015年 2月18日 | |
| 特許 5655759 | エネルギー線照射装置及びワーク搬送機構 | 2015年 1月21日 | |
| 特許 5655881 | リボン状イオンビームのためのイオンビーム偏向マグネットおよびそれを備えるイオンビーム照射装置 | 2015年 1月21日 | |
| 特許 5648919 | イオン注入装置 | 2015年 1月 7日 | |
| 特許 5648942 | 複数の磁場集中部材をカバーする保護部材を備えたイオンビーム照射装置用磁石 | 2015年 1月 7日 |
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5824078 5811256 5804444 5800286 5733333 5704402 5688709 5672297 5655759 5655881 5648919 5648942
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