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日新イオン機器株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第1400位 18件 下降2011年:第1072位 25件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第1784位 13件 上昇2011年:第2601位 7件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5103968 イオンビームの進行角修正方法およびイオン注入装置 2012年12月19日
特許 5077599 ビーム電流密度分布の調整目標設定方法及びイオン注入装置 2012年11月21日
特許 5071499 イオンビーム照射方法およびイオンビーム照射装置 2012年11月14日
特許 5040723 イオン源 2012年10月 3日
特許 5041260 イオン注入装置 2012年10月 3日
特許 5018938 イオン注入装置 2012年 9月 5日
特許 4992885 プラズマ発生装置 2012年 8月 8日
特許 4997756 イオンビーム照射装置およびビーム均一性調整方法 2012年 8月 8日
特許 4952002 イオンビーム照射装置 2012年 6月13日
特許 4946256 電界レンズおよびそれを備えるイオン注入装置 2012年 6月 6日
特許 4929516 配向処理装置 2012年 5月 9日
特許 4915671 イオン源、イオン注入装置およびイオン注入方法 2012年 4月11日
特許 4872603 イオン注入装置 2012年 2月 8日

13 件中 1-13 件を表示

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5103968 5077599 5071499 5040723 5041260 5018938 4992885 4997756 4952002 4946256 4929516 4915671 4872603

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