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日新イオン機器株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第1400位 18件
（
2011年：第1072位 25件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第1784位 13件
（
2011年：第2601位 7件）
（ランキング更新日：2025年4月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日新イオン機器株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5103968 | イオンビームの進行角修正方法およびイオン注入装置 | 2012年12月19日 | |
| 特許 5077599 | ビーム電流密度分布の調整目標設定方法及びイオン注入装置 | 2012年11月21日 | |
| 特許 5071499 | イオンビーム照射方法およびイオンビーム照射装置 | 2012年11月14日 | |
| 特許 5040723 | イオン源 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5041260 | イオン注入装置 | 2012年10月 3日 | |
| 特許 5018938 | イオン注入装置 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 4992885 | プラズマ発生装置 | 2012年 8月 8日 | |
| 特許 4997756 | イオンビーム照射装置およびビーム均一性調整方法 | 2012年 8月 8日 | |
| 特許 4952002 | イオンビーム照射装置 | 2012年 6月13日 | |
| 特許 4946256 | 電界レンズおよびそれを備えるイオン注入装置 | 2012年 6月 6日 | |
| 特許 4929516 | 配向処理装置 | 2012年 5月 9日 | |
| 特許 4915671 | イオン源、イオン注入装置およびイオン注入方法 | 2012年 4月11日 | |
| 特許 4872603 | イオン注入装置 | 2012年 2月 8日 |
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5103968 5077599 5071499 5040723 5041260 5018938 4992885 4997756 4952002 4946256 4929516 4915671 4872603
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