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日新イオン機器株式会社
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日新イオン機器株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
特許 6248977
|
基板保持装置 | 2017年12月20日 | |
| 特許 6237127
|
イオン源、その運転方法および電子銃 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6237133
|
イオン源および磁界発生方法 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6238094
|
半導体製造装置、基板支持装置の冷却方法 | 2017年11月29日 | |
| 特許 6201877
|
真空処理システム、真空処理装置、潤滑剤供給装置および潤滑剤供給方法 | 2017年 9月27日 | |
| 特許 6098846
|
真空チャンバ及び質量分析電磁石 | 2017年 3月22日 | |
| 特許 6094256
|
イオンビーム照射装置 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6094786
|
フィラメント交換器及びフィラメント交換構造 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6094800
|
イオンビーム照射装置 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6086254
|
基板処理装置 | 2017年 3月 1日 | |
| 特許 6083260
|
イオン源および当該イオン源を備えたイオンビーム照射装置 | 2017年 2月22日 | |
| 特許 6075555
|
静電チャックシステムおよび半導体製造装置 | 2017年 2月 8日 | |
| 特許 6066084
|
基板保持装置、半導体製造装置及び基板吸着判別方法 | 2017年 1月25日 |
13 件中 1-13 件を表示
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6248977 6237127 6237133 6238094 6201877 6098846 6094256 6094786 6094800 6086254 6083260 6075555 6066084
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