ホーム > 特許ランキング > 日新イオン機器株式会社 > 2017年 > 特許一覧
※ ログインすれば出願人(日新イオン機器株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2017年 出願公開件数ランキング 第2121位 11件
(2016年:第1586位 15件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1441位 13件
(2016年:第1730位 11件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6248977 | 基板保持装置 | 2017年12月20日 | |
特許 6237127 | イオン源、その運転方法および電子銃 | 2017年11月29日 | |
特許 6237133 | イオン源および磁界発生方法 | 2017年11月29日 | |
特許 6238094 | 半導体製造装置、基板支持装置の冷却方法 | 2017年11月29日 | |
特許 6201877 | 真空処理システム、真空処理装置、潤滑剤供給装置および潤滑剤供給方法 | 2017年 9月27日 | |
特許 6098846 | 真空チャンバ及び質量分析電磁石 | 2017年 3月22日 | |
特許 6094256 | イオンビーム照射装置 | 2017年 3月15日 | |
特許 6094786 | フィラメント交換器及びフィラメント交換構造 | 2017年 3月15日 | |
特許 6094800 | イオンビーム照射装置 | 2017年 3月15日 | |
特許 6086254 | 基板処理装置 | 2017年 3月 1日 | |
特許 6083260 | イオン源および当該イオン源を備えたイオンビーム照射装置 | 2017年 2月22日 | |
特許 6075555 | 静電チャックシステムおよび半導体製造装置 | 2017年 2月 8日 | |
特許 6066084 | 基板保持装置、半導体製造装置及び基板吸着判別方法 | 2017年 1月25日 |
13 件中 1-13 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6248977 6237127 6237133 6238094 6201877 6098846 6094256 6094786 6094800 6086254 6083260 6075555 6066084
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日新イオン機器株式会社の知財の動向チェックに便利です。
8月27日(水) - 東京 港区
8月27日(水) -
8月27日(水) -
8月28日(木) - 東京 港区
8月28日(木) -
8月28日(木) -
8月29日(金) - 大阪 大阪市
8月29日(金) -
8月29日(金) -
8月29日(金) - 東京 港区
8月29日(金) -
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
9月1日(月) - 東京 港区
特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
9月1日(月) -
9月2日(火) -
9月2日(火) -
9月2日(火) - 東京 港区
9月3日(水) -
9月3日(水) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月5日(金) -
9月5日(金) -
9月6日(土) -
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
〒541-0046 大阪市中央区平野町2丁目2番9号 ビル皿井2階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒500-8368 岐阜県 岐阜市 宇佐3丁目4番3号 4-3,Usa 3-Chome, Gifu-City, 500-8368 JAPAN 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒140-0002 東京都品川区東品川2丁目2番24号 天王洲セントラルタワー21F・22F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング