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日新イオン機器株式会社

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  2020年 出願公開件数ランキング    第1571位 15件 下降2019年:第1406位 18件)

  2020年 特許取得件数ランキング    第1660位 10件 下降2019年:第1635位 10件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6774034 イオン源、イオンビーム照射装置 2020年10月21日
特許 6756315 イオン源 2020年 9月16日
特許 6752449 イオンビーム中和方法と装置 2020年 9月 9日
特許 6733284 イオン源 2020年 7月29日
特許 6690616 パーティクル診断方法及びパーティクル診断装置 2020年 4月28日
特許 6680271 プラズマ源 2020年 4月15日
特許 6674641 半導体製造方法 2020年 4月 1日
特許 6653066 プラズマ源 2020年 2月26日
特許 6653067 イオン源支持台 2020年 2月26日
特許 6642612 イオン源、イオンビーム照射装置及びイオン源の運転方法 2020年 2月 5日

10 件中 1-10 件を表示

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6774034 6756315 6752449 6733284 6690616 6680271 6674641 6653066 6653067 6642612

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