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日新イオン機器株式会社
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第1571位 15件
（
2019年：第1406位 18件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第1660位 10件
（2019年：第1635位 10件）
（ランキング更新日：2026年2月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日新イオン機器株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6774034 | イオン源、イオンビーム照射装置 | 2020年10月21日 | |
| 特許 6756315 | イオン源 | 2020年 9月16日 | |
| 特許 6752449 | イオンビーム中和方法と装置 | 2020年 9月 9日 | |
| 特許 6733284 | イオン源 | 2020年 7月29日 | |
| 特許 6690616 | パーティクル診断方法及びパーティクル診断装置 | 2020年 4月28日 | |
| 特許 6680271 | プラズマ源 | 2020年 4月15日 | |
| 特許 6674641 | 半導体製造方法 | 2020年 4月 1日 | |
| 特許 6653066 | プラズマ源 | 2020年 2月26日 | |
| 特許 6653067 | イオン源支持台 | 2020年 2月26日 | |
| 特許 6642612 | イオン源、イオンビーム照射装置及びイオン源の運転方法 | 2020年 2月 5日 |
10 件中 1-10 件を表示
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6774034 6756315 6752449 6733284 6690616 6680271 6674641 6653066 6653067 6642612
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