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日新イオン機器株式会社

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  2018年 出願公開件数ランキング    第1925位 11件 上昇2017年:第2121位 11件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第1497位 12件 下降2017年:第1441位 13件)

(ランキング更新日:2026年2月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6439966 イオン源 2018年12月19日
特許 6428726 イオン注入システム 2018年11月28日
特許 6418262 イオンビーム照射装置、イオン源の着脱方法 2018年11月 7日
特許 6414763 イオンビーム照射装置 2018年10月31日
特許 6376236 加熱装置、半導体製造装置 2018年 8月22日
特許 6350234 イオンビーム照射装置及びこれに用いられるプログラム 2018年 7月 4日
特許 6347414 質量分析電磁石 2018年 6月27日
特許 6330785 絶縁スペーサ、電極体、荷電粒子源および荷電粒子ビーム照射装置 2018年 5月30日
特許 6307825 防着板支持部材、プラズマ源およびイオンビーム照射装置 2018年 4月11日
特許 6296189 加熱装置、半導体製造装置 2018年 3月20日
特許 6281257 リボンイオンビームのエネルギーを変更するためのシステム 2018年 2月21日
特許 6268680 イオン源の運転方法 2018年 1月31日

12 件中 1-12 件を表示

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6439966 6428726 6418262 6414763 6376236 6350234 6347414 6330785 6307825 6296189 6281257 6268680

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