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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第1771位 13件
（
2015年：第1576位 15件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第1440位 14件
（2015年：第1350位 14件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2016-539207 | 基材の選択的な研磨用の湿式法セリア組成物および関連する方法 | 2016年12月15日 | |
| 特表 2016-538357 | 基材の研磨用の湿式法セリア組成物および関連する方法 | 2016年12月 8日 | |
| 特表 2016-538359 | 混合研磨材の研磨組成物 | 2016年12月 8日 | |
| 特表 2016-537438 | 高分子フィルムの化学的−機械的平坦化 | 2016年12月 1日 | |
| 特表 2016-533908 | オフセットした同心の溝のパターンの端部除外領域を有するＣＭＰ研磨パッド | 2016年11月 4日 | |
| 特表 2016-533037 | 多孔質界面および中実コアを備えた研磨パッドならびにその装置および方法 | 2016年10月20日 | |
| 特表 2016-531429 | 酸化ケイ素、窒化ケイ素及びポリシリコン材料のＣＭＰ用組成物及び方法 | 2016年10月 6日 | |
| 特表 2016-528054 | 独立気泡構造を有する超高空隙体積研磨パッド | 2016年 9月15日 | |
| 特表 2016-524549 | 低表面粗さ研磨パッド | 2016年 8月18日 | |
| 特表 2016-524004 | 酸化物および窒化物に選択的な高除去速度および低欠陥を有するＣＭＰ組成物 | 2016年 8月12日 | |
| 特表 2016-519423 | 銅の化学的機械的平坦化後のための水性清浄化組成物 | 2016年 6月30日 | |
| 特表 2016-517461 | 固体含有率の低いＣＭＰ組成物及びそれに関する方法 | 2016年 6月16日 | |
| 特表 2016-510357 | ジルコニアおよび金属酸化剤を含む化学機械研磨組成物 | 2016年 4月 7日 |
13 件中 1-13 件を表示
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2016-539207 2016-538357 2016-538359 2016-537438 2016-533908 2016-533037 2016-531429 2016-528054 2016-524549 2016-524004 2016-519423 2016-517461 2016-510357
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