特許ランキング - 出願人詳細情報 -

キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション

※ ログインすれば出願人(キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第1771位　13件（2015年：第1576位　15件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第1440位　14件（2015年：第1350位　14件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2016-539207	基材の選択的な研磨用の湿式法セリア組成物および関連する方法	2016年12月15日
特表 2016-538357	基材の研磨用の湿式法セリア組成物および関連する方法	2016年12月 8日
特表 2016-538359	混合研磨材の研磨組成物	2016年12月 8日
特表 2016-537438	高分子フィルムの化学的−機械的平坦化	2016年12月 1日
特表 2016-533908	オフセットした同心の溝のパターンの端部除外領域を有するＣＭＰ研磨パッド	2016年11月 4日
特表 2016-533037	多孔質界面および中実コアを備えた研磨パッドならびにその装置および方法	2016年10月20日
特表 2016-531429	酸化ケイ素、窒化ケイ素及びポリシリコン材料のＣＭＰ用組成物及び方法	2016年10月 6日
特表 2016-528054	独立気泡構造を有する超高空隙体積研磨パッド	2016年 9月15日
特表 2016-524549	低表面粗さ研磨パッド	2016年 8月18日
特表 2016-524004	酸化物および窒化物に選択的な高除去速度および低欠陥を有するＣＭＰ組成物	2016年 8月12日
特表 2016-519423	銅の化学的機械的平坦化後のための水性清浄化組成物	2016年 6月30日
特表 2016-517461	固体含有率の低いＣＭＰ組成物及びそれに関する方法	2016年 6月16日
特表 2016-510357	ジルコニアおよび金属酸化剤を含む化学機械研磨組成物	2016年 4月 7日

13 件中 1-13 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2016-539207 2016-538357 2016-538359 2016-537438 2016-533908 2016-533037 2016-531429 2016-528054 2016-524549 2016-524004 2016-519423 2016-517461 2016-510357

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数