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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第1502位 15件
（
2014年： 0件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1349位 14件
（2014年： 0件）
（ランキング更新日：2026年10月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2015-534725 | ポリピロリドン研磨組成物および研磨方法 | 2015年12月 3日 | |
| 特表 2015-533668 | オフセットした同心の溝のパターンを有する研磨パッドおよびそれを用いて基材を研磨するための方法 | 2015年11月26日 | |
| 特表 2015-532005 | 白金及びルテニウム材料を選択的に研磨するための組成物及び方法 | 2015年11月 5日 | |
| 特開 2015-193077 | 化学機械的研磨のための透明な多孔性材料 | 2015年11月 5日 | |
| 特開 2015-195391 | 酸化に対して安定化されたＣＭＰ組成物及びＣＭＰ方法 | 2015年11月 5日 | |
| 特表 2015-528842 | ＧＳＴ用ＣＭＰスラリー | 2015年10月 1日 | |
| 特表 2015-528036 | 窒化ケイ素材料の選択的な研磨のための組成物および方法 | 2015年 9月24日 | |
| 特表 2015-525483 | モリブデン研磨のための組成物および方法 | 2015年 9月 3日 | |
| 特開 2015-159289 | ポリシリコン除去速度の抑制のためのＣＭＰ組成物および方法 | 2015年 9月 3日 | |
| 特開 2015-147938 | 誘電性ＣＭＰスラリーにおけるＣｓＯＨの使用 | 2015年 8月20日 | |
| 特表 2015-522669 | ジルコニア粒子を含むＣＭＰ組成物および使用方法 | 2015年 8月 6日 | |
| 特表 2015-516476 | 酸化物および窒化物に選択的な高除去速度および低欠陥のＣＭＰ組成物 | 2015年 6月11日 | |
| 特表 2015-512799 | 光に安定な光透過領域を有する研磨パッド | 2015年 4月30日 | |
| 特開 2015-77681 | 研磨組成物およびアミノシランを用いて処理された研削剤粒子の使用方法 | 2015年 4月23日 | |
| 特開 2015-17259 | ニッケル−リン記憶ディスク用の研磨組成物 | 2015年 1月29日 |
15 件中 1-15 件を表示
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2015-534725 2015-533668 2015-532005 2015-193077 2015-195391 2015-528842 2015-528036 2015-525483 2015-159289 2015-147938 2015-522669 2015-516476 2015-512799 2015-77681 2015-17259
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