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キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション

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キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2015-534725	ポリピロリドン研磨組成物および研磨方法	2015年12月 3日
特表 2015-533668	オフセットした同心の溝のパターンを有する研磨パッドおよびそれを用いて基材を研磨するための方法	2015年11月26日
特表 2015-532005	白金及びルテニウム材料を選択的に研磨するための組成物及び方法	2015年11月 5日
特開 2015-193077	化学機械的研磨のための透明な多孔性材料	2015年11月 5日
特開 2015-195391	酸化に対して安定化されたＣＭＰ組成物及びＣＭＰ方法	2015年11月 5日
特表 2015-528842	ＧＳＴ用ＣＭＰスラリー	2015年10月 1日
特表 2015-528036	窒化ケイ素材料の選択的な研磨のための組成物および方法	2015年 9月24日
特表 2015-525483	モリブデン研磨のための組成物および方法	2015年 9月 3日
特開 2015-159289	ポリシリコン除去速度の抑制のためのＣＭＰ組成物および方法	2015年 9月 3日
特開 2015-147938	誘電性ＣＭＰスラリーにおけるＣｓＯＨの使用	2015年 8月20日
特表 2015-522669	ジルコニア粒子を含むＣＭＰ組成物および使用方法	2015年 8月 6日
特表 2015-516476	酸化物および窒化物に選択的な高除去速度および低欠陥のＣＭＰ組成物	2015年 6月11日
特表 2015-512799	光に安定な光透過領域を有する研磨パッド	2015年 4月30日
特開 2015-77681	研磨組成物およびアミノシランを用いて処理された研削剤粒子の使用方法	2015年 4月23日
特開 2015-17259	ニッケル−リン記憶ディスク用の研磨組成物	2015年 1月29日

15 件中 1-15 件を表示

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2015-534725 2015-533668 2015-532005 2015-193077 2015-195391 2015-528842 2015-528036 2015-525483 2015-159289 2015-147938 2015-522669 2015-516476 2015-512799 2015-77681 2015-17259

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