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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション

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  2024年 出願公開件数ランキング    第2073位 9件 上昇2023年:第2569位 8件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第3431位 4件 下降2023年:第1999位 9件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-155926 CMPスラリーの粒子分散を改善するための添加剤 2024年10月31日
特表 2024-535370 誘電体のCMPに使用される高分子量ポリマーを含むシリカ系スラリー組成物 2024年 9月30日
特表 2024-534220 ポリマー粒子を含むテクスチャ加工CMPパッド 2024年 9月18日
特表 2024-530724 アニオン性研磨剤を含むCMP組成物 2024年 8月23日
特表 2024-508243 炭窒化ケイ素研磨組成物及び方法 2024年 2月26日
特表 2024-505893 ホウ素ドープポリシリコンを研磨するための組成物及び方法 2024年 2月 8日
特表 2024-505191 制御されたテクスチャ面を有するエンドポイント窓 2024年 2月 5日
特表 2024-501292 ポリマーシェルを備えたポロゲンを有する化学機械研磨サブパッド 2024年 1月11日
特表 2024-500162 高トポロジカル選択比のための自己停止ポリッシング組成物及び方法 2024年 1月 4日

9 件中 1-9 件を表示

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2024-155926 2024-535370 2024-534220 2024-530724 2024-508243 2024-505893 2024-505191 2024-501292 2024-500162

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