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キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション

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キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2018-534379	改善された安定性及び改善された研磨特性を有する、選択的窒化物スラリー	2018年11月22日
特表 2018-533489	基礎層及びこれに取付けられた窓を有する研磨パッド	2018年11月15日
特表 2018-532828	誘電体基板を加工するための方法及び組成物	2018年11月 8日
特表 2018-531157	高い弾性率比率を有するポリウレタンＣＭＰパッド	2018年10月25日
特表 2018-529219	誘電体基板を加工するための方法及び組成物	2018年10月 4日
特表 2018-518825	改善されたサファイア除去速度と低い表面粗さを有するダイヤモンド系スラリー	2018年 7月12日
特表 2018-513229	カチオン性ポリマー添加剤を含む研磨組成物	2018年 5月24日
特表 2018-513552	セリア粒子を含有する研磨組成物及び使用方法	2018年 5月24日
特開 2018-82213	下地層および研磨表面層を有する研磨パッド	2018年 5月24日
特表 2018-512475	セリア研磨剤を含有する研磨組成物	2018年 5月17日
特表 2018-510230	窒化ケイ素の除去のためのＣＭＰ組成物	2018年 4月12日
特表 2018-509303	低密度研磨パッド	2018年 4月 5日
特表 2018-507540	洗浄用組成物及びＣＭＰ後の半導体ウエハーの洗浄方法	2018年 3月15日
特表 2018-504770	ＳＴＩウエハーの研磨にてディッシングの低減を示すＣＭＰ組成物	2018年 2月15日
特表 2018-500456	腐食抑制剤及び関連組成物並びに方法	2018年 1月11日

15 件中 1-15 件を表示

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2018-534379 2018-533489 2018-532828 2018-531157 2018-529219 2018-518825 2018-513229 2018-513552 2018-82213 2018-512475 2018-510230 2018-509303 2018-507540 2018-504770 2018-500456

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