特許ランキング - 出願人詳細情報 -

キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション

※ ログインすれば出願人(キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第1452位　15件（2017年：第979位　27件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第1592位　11件（2017年：第1628位　11件）

（ランキング更新日：2026年10月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2018-534379	改善された安定性及び改善された研磨特性を有する、選択的窒化物スラリー	2018年11月22日
特表 2018-533489	基礎層及びこれに取付けられた窓を有する研磨パッド	2018年11月15日
特表 2018-532828	誘電体基板を加工するための方法及び組成物	2018年11月 8日
特表 2018-531157	高い弾性率比率を有するポリウレタンＣＭＰパッド	2018年10月25日
特表 2018-529219	誘電体基板を加工するための方法及び組成物	2018年10月 4日
特表 2018-518825	改善されたサファイア除去速度と低い表面粗さを有するダイヤモンド系スラリー	2018年 7月12日
特表 2018-513229	カチオン性ポリマー添加剤を含む研磨組成物	2018年 5月24日
特表 2018-513552	セリア粒子を含有する研磨組成物及び使用方法	2018年 5月24日
特開 2018-82213	下地層および研磨表面層を有する研磨パッド	2018年 5月24日
特表 2018-512475	セリア研磨剤を含有する研磨組成物	2018年 5月17日
特表 2018-510230	窒化ケイ素の除去のためのＣＭＰ組成物	2018年 4月12日
特表 2018-509303	低密度研磨パッド	2018年 4月 5日
特表 2018-507540	洗浄用組成物及びＣＭＰ後の半導体ウエハーの洗浄方法	2018年 3月15日
特表 2018-504770	ＳＴＩウエハーの研磨にてディッシングの低減を示すＣＭＰ組成物	2018年 2月15日
特表 2018-500456	腐食抑制剤及び関連組成物並びに方法	2018年 1月11日

15 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2018-534379 2018-533489 2018-532828 2018-531157 2018-529219 2018-518825 2018-513229 2018-513552 2018-82213 2018-512475 2018-510230 2018-509303 2018-507540 2018-504770 2018-500456

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数