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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第2497位 8件
（
2019年：第1719位 14件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第1368位 13件
（2019年：第824位 25件）
（ランキング更新日：2025年3月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2020-536386 | タングステンバフ用途のための表面処理研削粒子 | 2020年12月10日 | |
| 特表 2020-534679 | タングステンＣＭＰ用組成物 | 2020年11月26日 | |
| 特表 2020-534680 | ＴｉＮ−ＳｉＮ ＣＭＰ用途の高選択性のための窒化物抑制剤 | 2020年11月26日 | |
| 特表 2020-517117 | バルク酸化物の平坦化のための自己停止研磨組成物および方法 | 2020年 6月11日 | |
| 特開 2020-55103 | 液状充填材を含むポロゲンを有する研磨パッド | 2020年 4月 9日 | |
| 特表 2020-505756 | 炭化ケイ素を研磨するための組成物及び方法 | 2020年 2月20日 | |
| 特表 2020-502784 | 化学機械平坦化基板から残留物を除去するための組成物及び方法 | 2020年 1月23日 | |
| 特表 2020-500419 | 改善されたディッシングおよびパターン選択性を有する酸化物および窒化物選択性のＣＭＰ組成物 | 2020年 1月 9日 |
8 件中 1-8 件を表示
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2020-536386 2020-534679 2020-534680 2020-517117 2020-55103 2020-505756 2020-502784 2020-500419
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