特許ランキング - 出願人詳細情報 -

キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション

※ ログインすれば出願人(キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2022年出願公開件数ランキング　　　第1087位　23件（2021年：第4398位　4件）

　■　2022年特許取得件数ランキング　　　第1898位　10件（2021年：第1299位　14件）

（ランキング更新日：2025年2月14日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2023年 2024年 2025年

キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2022-553334	誘電体ＣＭＰのための組成物及び方法	2022年12月22日
特表 2022-553335	自動停止研磨組成物及び方法	2022年12月22日
特表 2022-553336	選択的酸化物ＣＭＰのための組成物及び方法	2022年12月22日
特表 2022-553346	酸化ケイ素及び炭素ドープ酸化ケイ素ＣＭＰのための組成物並びに方法	2022年12月22日
特表 2022-553347	酸化ケイ素に比べて窒化ケイ素およびポリシリコンについて高い選択性を有する研磨組成物および方法	2022年12月22日
特表 2022-552895	誘電体ＣＭＰのための組成物及び方法	2022年12月20日
特表 2022-546584	ポリシリコンＣＭＰ用組成物および方法	2022年11月 4日
特表 2022-541138	ポリアミンおよびシクロヘキサンジメタノール硬化剤を使用した研磨パッド	2022年 9月22日
特表 2022-541201	バルクタングステンスラリーにおけるバリア膜の除去速度を増加させる方法	2022年 9月22日
特表 2022-531472	一定の溝容積を有する化学機械平坦化パッド	2022年 7月 6日
特表 2022-531478	バットベースの生成を介する化学機械平坦化パッド	2022年 7月 6日
特開 2022-97502	コバルトＣＭＰ用の代替的な酸化剤	2022年 6月30日
特表 2022-530540	テクスチャ加工されたプラテン接着剤を有する化学機械研磨パッド	2022年 6月29日
特表 2022-529113	タングステンバフ用途のための表面被覆された研削粒子	2022年 6月17日
特表 2022-527089	ＣＭＰスラリーの粒子分散を改善するための添加剤	2022年 5月30日

23 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2022-553334 2022-553335 2022-553336 2022-553346 2022-553347 2022-552895 2022-546584 2022-541138 2022-541201 2022-531472 2022-531478 2022-97502 2022-530540 2022-529113 2022-527089

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。キャボット　マイクロエレクトロニクス　コーポレイションの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数