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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第1110位 27件 (2016年:第1771位 13件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1630位 11件 (2016年:第1440位 14件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2017-539077 | コバルトディッシング制御剤 | 2017年12月28日 | |
特表 2017-537801 | 化学機械研磨のためのコーティングされた圧縮サブパッド | 2017年12月21日 | |
特表 2017-538285 | コバルト研磨促進剤 | 2017年12月21日 | |
特表 2017-532397 | サファイア表面を研磨するための組成物及び方法 | 2017年11月 2日 | |
特表 2017-531311 | ゲルマニウムの化学機械研磨 | 2017年10月19日 | |
特表 2017-529318 | ジアルキルヒドロキシルアミンによる分解に対するトリス(2−ヒドロキシエチル)メチルアンモニウムヒドロキシドの安定化 | 2017年10月 5日 | |
特表 2017-527446 | アルミニウムの研磨のためのCMPスラリー組成物及び方法 | 2017年 9月21日 | |
特表 2017-527104 | コロイダルシリカ化学機械研磨濃縮物 | 2017年 9月14日 | |
特表 2017-525793 | コロイダルシリカ化学機械研磨組成物 | 2017年 9月 7日 | |
特表 2017-525796 | 銅バリアの化学機械研磨組成物 | 2017年 9月 7日 | |
特表 2017-525797 | コロイダルシリカ化学機械研磨組成物 | 2017年 9月 7日 | |
特表 2017-526160 | 高い除去速度と低欠陥性を有する、ポリシリコン及び窒化物を上回り酸化物に対して選択的なCMP組成物 | 2017年 9月 7日 | |
特表 2017-524767 | タングステンの化学機械研磨組成物 | 2017年 8月31日 | |
特表 2017-524770 | 化学機械研磨組成物の製造方法 | 2017年 8月31日 | |
特表 2017-524249 | CMP後の洗浄組成物及びそれに関連する方法 | 2017年 8月24日 |
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2017-539077 2017-537801 2017-538285 2017-532397 2017-531311 2017-529318 2017-527446 2017-527104 2017-525793 2017-525796 2017-525797 2017-526160 2017-524767 2017-524770 2017-524249
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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