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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第2569位 8件
(2022年:第1087位 23件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第1999位 9件
(2022年:第1898位 10件)
(ランキング更新日:2025年4月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2023-547826 | 化学機械研磨パッドのために使用される紫外線硬化性樹脂 | 2023年11月14日 | |
特表 2023-542168 | 炭素系膜の選択的研磨用シリカ系スラリー | 2023年10月 5日 | |
特表 2023-538826 | 二酸化チタン含有ルテニウム化学機械研磨スラリー | 2023年 9月12日 | |
特表 2023-536475 | アニオン性及びカチオン性抑制剤を含むCMP組成物 | 2023年 8月25日 | |
特表 2023-529418 | 固体ポリマー電解質組成物及び前記固体ポリマー電解質組成物を製造する方法 | 2023年 7月10日 | |
特表 2023-528642 | 固体ポリマー電解質を有する二次バッテリセル | 2023年 7月 5日 | |
特表 2023-520875 | 新規の研磨剤を含むCMP組成物 | 2023年 5月22日 | |
特表 2023-510757 | 誘導体化ポリアミノ酸 | 2023年 3月15日 |
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2023-547826 2023-542168 2023-538826 2023-536475 2023-529418 2023-528642 2023-520875 2023-510757
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