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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第123位 417件
(2016年:第233位 176件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第183位 176件
(2016年:第254位 129件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6239893 | ウェット処理装置及びこれを備えた基板処理装置 | 2017年11月29日 | |
特許 6239969 | 排水構造および基板処理装置 | 2017年11月29日 | |
特許 6240229 | 真空ポンプ | 2017年11月29日 | |
特許 6234325 | 圧力校正用治具、及び、基板処理装置 | 2017年11月22日 | |
特許 6232195 | 試料検査装置及び試料の検査方法 | 2017年11月15日 | |
特許 6232295 | 研磨装置 | 2017年11月15日 | |
特許 6232297 | 基板保持装置および研磨装置 | 2017年11月15日 | |
特許 6232515 | 基板保持装置 | 2017年11月15日 | |
特許 6227262 | 表面電位測定装置および表面電位測定方法 | 2017年11月 8日 | |
特許 6227821 | 研磨装置、及び研磨方法 | 2017年11月 8日 | |
特許 6227895 | 基板処理装置 | 2017年11月 8日 | |
特許 6223199 | めっき装置およびめっき方法 | 2017年11月 1日 | |
特許 6223873 | 研磨装置及び研磨方法 | 2017年11月 1日 | |
特許 6224974 | 基板洗浄機、基板洗浄装置、洗浄済基板の製造方法及び基板処理装置 | 2017年11月 1日 | |
特許 6225088 | 研磨方法および研磨装置 | 2017年11月 1日 |
178 件中 16-30 件を表示
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6239893 6239969 6240229 6234325 6232195 6232295 6232297 6232515 6227262 6227821 6227895 6223199 6223873 6224974 6225088
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特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
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9月2日(火) -
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9月4日(木) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
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