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東京応化工業株式会社

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  2017年 出願公開件数ランキング    第280位 165件 上昇2016年:第288位 133件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第200位 158件 上昇2016年:第233位 146件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2017-212963 マクロファージの形質誘導制御用細胞培養基材及びマクロファージの形質制御方法 2017年12月 7日
特開 2017-212964 神経細胞の形質誘導用細胞培養基材、神経細胞の形質制御方法、神経突起の伸長方法、ドパミン分泌制御方法及びアセチルコリンエステラーゼ活性の制御方法 2017年12月 7日
特開 2017-212393 ケイ素酸化物薄膜の除去方法 2017年11月30日
特開 2017-212398 均一系塗布液の製造方法、太陽電池用光吸収層の形成方法、および太陽電池の製造方法 2017年11月30日
特開 2017-212404 均一系塗布液の製造方法、太陽電池用光吸収層の製造方法、及び太陽電池の製造方法 2017年11月30日
特開 2017-207569 レジストパターン形成方法 2017年11月24日
特開 2017-207778 感光性組成物 2017年11月24日
特開 2017-208453 封止体の製造方法、及び、積層体 2017年11月24日
特開 2017-202479 ポリイミド系樹脂膜洗浄液、ポリイミド系樹脂膜を洗浄する方法、ポリイミド膜を製造する方法、フィルタ、フィルターメディア又はフィルターデバイスを製造する方法、及びリソグラフィー用薬液の製造方法 2017年11月16日
再表 2016-153044 ネガ型感光性組成物、パターン形成方法 2017年11月 9日
特開 2017-201379 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物 2017年11月 9日
特開 2017-201409 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2017年11月 9日
特開 2017-201427 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2017年11月 9日
特開 2017-197478 化合物及びその製造方法 2017年11月 2日
特開 2017-198865 感光性組成物 2017年11月 2日

173 件中 16-30 件を表示

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2017-212963 2017-212964 2017-212393 2017-212398 2017-212404 2017-207569 2017-207778 2017-208453 2017-202479 2016-153044 2017-201379 2017-201409 2017-201427 2017-197478 2017-198865

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