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東京応化工業株式会社

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  2017年 出願公開件数ランキング    第280位 165件 上昇2016年:第288位 133件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第200位 158件 上昇2016年:第233位 146件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2017-107100 レジストパターン形成方法 2017年 6月15日
再表 2016-31580 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜の形成方法 2017年 6月 8日
特開 2017-100110 機能膜製造システム、機能膜製造方法、燃料電池製造システム、及び燃料電池の製造方法。 2017年 6月 8日
特開 2017-100403 積層体の製造方法、及び、その利用 2017年 6月 8日
特開 2017-102255 ポジ型フォトレジスト組成物 2017年 6月 8日
特開 2017-102260 レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物 2017年 6月 8日
再表 2016-27825 多孔質ポリイミド膜製造用ワニス及びそれを用いた多孔質ポリイミド膜の製造方法 2017年 6月 1日
再表 2016-10036 感光性組成物及び化合物 2017年 5月25日
特開 2017-87138 液体を被精製物とする精製方法、ケイ素化合物含有液を被精製物とする精製方法、シリル化剤薬液、膜形成用材料又は拡散剤組成物の製造方法、フィルターメディア、及び、フィルターデバイス 2017年 5月25日
特開 2017-90803 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜の形成方法、並びにデバイス 2017年 5月25日
特開 2017-92194 支持体分離装置及び支持体分離方法 2017年 5月25日
特開 2017-92195 支持体分離装置及び支持体分離方法 2017年 5月25日
特開 2017-92196 支持体分離装置及び支持体分離方法 2017年 5月25日
特開 2017-92288 積層体の製造方法および基板の処理方法 2017年 5月25日
特開 2017-81990 化合物 2017年 5月18日

173 件中 91-105 件を表示

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2017-107100 2016-31580 2017-100110 2017-100403 2017-102255 2017-102260 2016-27825 2016-10036 2017-87138 2017-90803 2017-92194 2017-92195 2017-92196 2017-92288 2017-81990

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