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東京応化工業株式会社
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第280位 165件
（
2016年：第288位 133件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第200位 158件
（2016年：第233位 146件）
（ランキング更新日：2024年11月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2017-83140 | 基板加熱装置及び基板加熱方法 | 2017年 5月18日 | |
| 特開 2017-83540 | 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜、デバイス及び層間絶縁膜の形成方法 | 2017年 5月18日 | |
| 特開 2017-84910 | 支持体分離方法 | 2017年 5月18日 | |
| 再表 2016-113935 | 深紫外ＬＥＤ及びその製造方法 | 2017年 4月27日 | |
| 特開 2017-79096 | 触媒層形成装置、触媒層の形成方法、触媒層、燃料電池、燃料電池製造システム、及び燃料電池の製造方法。 | 2017年 4月27日 | |
| 再表 2015-194546 | 多孔性のイミド系樹脂膜製造システム、セパレータ、及び多孔性のイミド系樹脂膜製造方法 | 2017年 4月20日 | |
| 再表 2015-194547 | 塗布装置及び多孔性のイミド系樹脂膜製造システム | 2017年 4月20日 | |
| 再表 2015-194548 | イミド系樹脂膜製造システム及びイミド系樹脂膜製造方法 | 2017年 4月20日 | |
| 特開 2017-72050 | 塗布装置及び塗布方法 | 2017年 4月13日 | |
| 特開 2017-72691 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸拡散制御剤 | 2017年 4月13日 | |
| 再表 2015-133000 | 深紫外ＬＥＤ及びその製造方法 | 2017年 4月 6日 | |
| 再表 2015-137461 | 二次電池用多孔質セパレータおよびそれを用いた二次電池 | 2017年 4月 6日 | |
| 特開 2017-64711 | 濾過フィルター及び濾過方法、並びにリソグラフィー用薬液精製品の製造方法 | 2017年 4月 6日 | |
| 特開 2017-64712 | 濾過フィルター及び濾過方法、並びにリソグラフィー用薬液精製品の製造方法 | 2017年 4月 6日 | |
| 特開 2017-68073 | レジストパターン形成方法及びパターン厚肉化用ポリマー組成物 | 2017年 4月 6日 |
173 件中 106-120 件を表示
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2017-83140 2017-83540 2017-84910 2016-113935 2017-79096 2015-194546 2015-194547 2015-194548 2017-72050 2017-72691 2015-133000 2015-137461 2017-64711 2017-64712 2017-68073
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12月4日(水) - 東京 港区
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