特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京応化工業株式会社

※ ログインすれば出願人(東京応化工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第280位　165件（2016年：第288位　133件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第200位　158件（2016年：第233位　146件）

（ランキング更新日：2025年6月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2017-45056	感光性組成物、パターン形成方法、硬化物、及び表示装置	2017年 3月 2日
再表 2014-175011	多孔質ポリイミド膜の製造方法、多孔質ポリイミド膜、及びそれを用いたセパレータ	2017年 2月23日
再表 2014-196311	錯体およびその溶液の製造方法、太陽電池用光吸収層の製造方法および太陽電池の製造方法	2017年 2月23日
再表 2014-196435	ワニス、それを用いて製造した多孔質ポリイミド膜、及びその製造方法	2017年 2月23日
再表 2014-196656	二次電池用セパレータの製造方法およびリチウム二次電池の製造方法	2017年 2月23日
再表 2014-203965	非水二次電池及びその製造方法	2017年 2月23日
特開 2017-39068	清掃部材、塗布装置及び塗布方法	2017年 2月23日
特開 2017-39091	濾過材料、濾過フィルター及び濾過方法	2017年 2月23日
特開 2017-41548	ノズルおよび塗布装置	2017年 2月23日
再表 2014-157082	貼付方法	2017年 2月16日
再表 2014-157674	ビニルエーテル化合物に由来する構造単位を含む化合物	2017年 2月16日
再表 2014-157675	ビニル基含有化合物を含有する組成物	2017年 2月16日
再表 2014-157676	ビニル基含有フルオレン系化合物	2017年 2月16日
特開 2017-37108	感光性組成物	2017年 2月16日
特開 2017-37169	紫外線照射装置、レジストパターン形成装置、紫外線照射方法及びレジストパターン形成方法	2017年 2月16日

173 件中 136-150 件を表示

... 10

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2017-45056 2014-175011 2014-196311 2014-196435 2014-196656 2014-203965 2017-39068 2017-39091 2017-41548 2014-157082 2014-157674 2014-157675 2014-157676 2017-37108 2017-37169

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京応化工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数