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東京応化工業株式会社

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  2018年 出願公開件数ランキング    第287位 137件 下降2017年:第280位 165件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第245位 119件 下降2017年:第200位 158件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6284431 拡散剤組成物及び不純物拡散層の形成方法 2018年 2月28日
特許 6284671 層間絶縁膜用感光性樹脂組成物 2018年 2月28日
特許 6286118 レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 2018年 2月28日
特許 6286239 塗布装置、基板処理装置、塗布方法及び基板処理方法 2018年 2月28日
特許 6282058 有機溶剤現像液 2018年 2月21日
特許 6282100 溶剤現像ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 2018年 2月21日
特許 6282847 フォトマスク及び該フォトマスクを用いた基板の製造方法 2018年 2月21日
特許 6278670 パターン微細化用被覆剤 2018年 2月14日
特許 6279878 太陽電池の製造方法 2018年 2月14日
特許 6280343 塗布装置および塗布方法 2018年 2月14日
特許 6274731 パターン形成装置 2018年 2月 7日
特許 6277051 プラグバルブ、液体供給方法、液体供給装置、および塗布装置 2018年 2月 7日
特許 6271650 高分子化合物、化合物 2018年 1月31日
特許 6266886 レジストパターン形成方法 2018年 1月24日
特許 6266960 感エネルギー性組成物 2018年 1月24日

123 件中 106-120 件を表示

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6284431 6284671 6286118 6286239 6282058 6282100 6282847 6278670 6279878 6280343 6274731 6277051 6271650 6266886 6266960

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