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東京応化工業株式会社
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第287位 137件
（
2017年：第280位 165件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第245位 119件
（2017年：第200位 158件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6284431 | 拡散剤組成物及び不純物拡散層の形成方法 | 2018年 2月28日 | |
| 特許 6284671 | 層間絶縁膜用感光性樹脂組成物 | 2018年 2月28日 | |
| 特許 6286118 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物、化合物 | 2018年 2月28日 | |
| 特許 6286239 | 塗布装置、基板処理装置、塗布方法及び基板処理方法 | 2018年 2月28日 | |
| 特許 6282058 | 有機溶剤現像液 | 2018年 2月21日 | |
| 特許 6282100 | 溶剤現像ネガ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2018年 2月21日 | |
| 特許 6282847 | フォトマスク及び該フォトマスクを用いた基板の製造方法 | 2018年 2月21日 | |
| 特許 6278670 | パターン微細化用被覆剤 | 2018年 2月14日 | |
| 特許 6279878 | 太陽電池の製造方法 | 2018年 2月14日 | |
| 特許 6280343 | 塗布装置および塗布方法 | 2018年 2月14日 | |
| 特許 6274731 | パターン形成装置 | 2018年 2月 7日 | |
| 特許 6277051 | プラグバルブ、液体供給方法、液体供給装置、および塗布装置 | 2018年 2月 7日 | |
| 特許 6271650 | 高分子化合物、化合物 | 2018年 1月31日 | |
| 特許 6266886 | レジストパターン形成方法 | 2018年 1月24日 | |
| 特許 6266960 | 感エネルギー性組成物 | 2018年 1月24日 |
123 件中 106-120 件を表示
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6284431 6284671 6286118 6286239 6282058 6282100 6282847 6278670 6279878 6280343 6274731 6277051 6271650 6266886 6266960
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新製品開発の「タネ」がみつかる！株式会社リコーによるシーズ発表会 ～リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか？～
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
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12月5日(木) - 東京 港区
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12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ～ つながりを育む出会いの場（知財ネットワーク交流会）～
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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