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東京応化工業株式会社
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（
2024年：第253位 138件）
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（
2024年：第258位 123件）
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2025-187717 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤 | 2025年12月25日 | |
| 特開 2025-187431 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤、酸拡散制御剤及び高分子化合物 | 2025年12月25日 | |
| 特開 2025-187429 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤、及び酸拡散制御剤 | 2025年12月25日 | |
| 特開 2025-182527 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び高分子化合物 | 2025年12月15日 | |
| 特開 2025-182493 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び高分子化合物 | 2025年12月15日 | |
| 特開 2025-179402 | 光学製品 | 2025年12月10日 | |
| 特開 2025-177899 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2025年12月 5日 | |
| 特開 2025-178097 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2025年12月 5日 | |
| 特開 2025-178109 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2025年12月 5日 | |
| 特開 2025-174646 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤 | 2025年11月28日 | |
| 特開 2025-174185 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び高分子化合物 | 2025年11月28日 | |
| 特開 2025-173382 | レジスト材料、ドライエッチング用レジスト材料、パターン形成方法、及び、構造体 | 2025年11月27日 | |
| 特開 2025-170873 | 処理液、半導体基板の処理方法、及び半導体デバイスの製造方法 | 2025年11月20日 | |
| 特開 2025-166441 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 | 2025年11月 6日 | |
| 特開 2025-166423 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤、及び酸拡散制御剤 | 2025年11月 6日 |
144 件中 1-15 件を表示
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2025-187717 2025-187431 2025-187429 2025-182527 2025-182493 2025-179402 2025-177899 2025-178097 2025-178109 2025-174646 2025-174185 2025-173382 2025-170873 2025-166441 2025-166423
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