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東京応化工業株式会社
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第332位 110件
（
2019年：第337位 116件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第264位 105件
（
2019年：第234位 117件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6652890 | 基板洗浄装置、基板洗浄方法、搬送装置、及び、基板処理システム | 2020年 2月26日 | |
| 特許 6653581 | 多孔質膜 | 2020年 2月26日 | |
| 特許 6653656 | 透明体の製造方法、透明体及び非晶質体 | 2020年 2月26日 | |
| 特許 6655450 | 塗布装置及び塗布方法 | 2020年 2月26日 | |
| 特許 6649111 | 積層体、積層体の製造方法、及び基板の処理方法 | 2020年 2月19日 | |
| 特許 6651337 | ポジ型フォトレジスト組成物 | 2020年 2月19日 | |
| 特許 6651383 | 液晶ポリエステルの製造方法 | 2020年 2月19日 | |
| 特許 6652362 | 基板ケース、収納部、及び、基板搬送器 | 2020年 2月19日 | |
| 特許 6646990 | レジストパターン形成方法 | 2020年 2月14日 | |
| 特許 6647014 | 支持体分離装置及び支持体分離方法 | 2020年 2月14日 | |
| 特許 6643833 | レジストパターン形成方法、レジストパターンスプリット剤、スプリットパターン改善化剤及びレジストパターンスプリット材料 | 2020年 2月12日 | |
| 特許 6643863 | 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜、デバイス及び層間絶縁膜の形成方法 | 2020年 2月12日 | |
| 特許 6644642 | 積層体 | 2020年 2月12日 | |
| 特許 6644643 | 積層体の製造方法 | 2020年 2月12日 | |
| 特許 6639867 | 基板加熱装置及び基板加熱方法 | 2020年 2月 5日 |
110 件中 91-105 件を表示
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6652890 6653581 6653656 6655450 6649111 6651337 6651383 6652362 6646990 6647014 6643833 6643863 6644642 6644643 6639867
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12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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