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■ 2020年 特許取得件数ランキング 第264位 105件 (2019年:第234位 117件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6706530 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2020年 6月10日 | |
特許 6705583 | ポリイミド、ポリアミド酸、ポリアミド酸溶液、及び、ポリイミドフィルム | 2020年 6月 3日 | |
特許 6705661 | カルボン酸エステル含有組成物 | 2020年 6月 3日 | |
特許 6698147 | ケイ素含有樹脂組成物 | 2020年 5月27日 | |
特許 6700188 | スルホニウム塩、光酸発生剤、及び感光性組成物 | 2020年 5月27日 | |
特許 6700846 | 配線基板用積層体、配線基板、及び配線基板用積層体の製造方法 | 2020年 5月27日 | |
特許 6695227 | 支持体分離装置および支持体分離方法 | 2020年 5月20日 | |
特許 6691816 | 封止体の製造方法 | 2020年 5月13日 | |
特許 6691203 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法及びめっき造形物の製造方法 | 2020年 4月28日 | |
特許 6684583 | レジストパターン形成方法 | 2020年 4月22日 | |
特許 6681750 | 洗浄液及び洗浄方法 | 2020年 4月15日 | |
特許 6681762 | 積層体、及び積層体の製造方法 | 2020年 4月15日 | |
特許 6681795 | 表面処理剤及び表面処理方法 | 2020年 4月15日 | |
特許 6681796 | シリル化剤溶液、表面処理方法、及び半導体デバイスの製造方法 | 2020年 4月15日 | |
特許 6681835 | 多孔質ポリイミド膜の製造方法 | 2020年 4月15日 |
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6706530 6705583 6705661 6698147 6700188 6700846 6695227 6691816 6691203 6684583 6681750 6681762 6681795 6681796 6681835
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