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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第332位 110件 (2019年:第337位 116件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第264位 105件 (2019年:第234位 117件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6757623 | レジストパターン厚肉化用ポリマー組成物、及びレジストパターン形成方法 | 2020年 9月23日 | |
特許 6757626 | レジストパターン形成方法、及びパターン厚肉化用ポリマー組成物 | 2020年 9月23日 | |
特許 6757629 | 基板加熱装置、基板加熱方法及び赤外線ヒータ | 2020年 9月23日 | |
特許 6756541 | 基板の製造方法 | 2020年 9月16日 | |
特許 6749195 | リソグラフィー用薬液精製品の製造方法、及びレジストパターン形成方法 | 2020年 9月 2日 | |
特許 6749196 | リソグラフィー用薬液精製品の製造方法、及びレジストパターン形成方法 | 2020年 9月 2日 | |
特許 6751036 | 半導体基板の製造方法 | 2020年 9月 2日 | |
特許 6745167 | レジストパターン形成方法、及びパターン厚肉化用ポリマー組成物 | 2020年 8月26日 | |
特許 6741471 | レジストパターン形成方法 | 2020年 8月19日 | |
特許 6741540 | 基板の表面物性を制御する方法 | 2020年 8月19日 | |
特許 6741838 | 情報処理システム、情報処理装置、情報処理方法及びプログラム | 2020年 8月19日 | |
特許 6734109 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物 | 2020年 8月 5日 | |
特許 6735171 | 高分子化合物の製造方法 | 2020年 8月 5日 | |
特許 6735205 | レジストパターンのラフネスを低減させるために用いられる被覆剤、及びラフネスが低減されたレジストパターンの製造方法 | 2020年 8月 5日 | |
特許 6735349 | 微粒子の回収方法及び回収システム | 2020年 8月 5日 |
110 件中 31-45 件を表示
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6757623 6757626 6757629 6756541 6749195 6749196 6751036 6745167 6741471 6741540 6741838 6734109 6735171 6735205 6735349
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11月28日(木) - 東京 港区
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11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
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11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月28日(木) - 東京 港区
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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