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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第253位 138件
(
2023年:第318位 109件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第258位 123件
(
2023年:第281位 118件)
(ランキング更新日:2025年10月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7413370 | 含ケイ素ポリマー、膜形成用組成物、被処理体の表面に金属化合物を担持させる方法、金属化合物を担持する被膜を備える物品、及び含ケイ素ポリマーの製造方法 | 2024年 1月15日 | |
| 特許 7407524 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤及び化合物の製造方法 | 2024年 1月 4日 | |
| 特許 7407576 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 1月 4日 | |
| 特許 7407586 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び酸拡散制御剤 | 2024年 1月 4日 | |
| 特許 7407587 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 1月 4日 | |
| 特許 7407614 | 基板加熱装置および基板処理システム | 2024年 1月 4日 |
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7413370 7407524 7407576 7407586 7407587 7407614
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11月4日(火) -
11月4日(火) - 大阪 大阪市
11月4日(火) -
11月5日(水) -
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11月6日(木) - 東京 港区
11月6日(木) - 大阪 大阪市
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11月7日(金) -
11月7日(金) -
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