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東京応化工業株式会社
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第253位 138件
（
2023年：第318位 109件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第258位 123件
（2023年：第281位 118件）
（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7433275 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 2月19日 | |
| 特許 7433394 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 | 2024年 2月19日 | |
| 特許 7428478 | 拡散剤組成物、及び半導体基板の製造方法 | 2024年 2月 6日 | |
| 特許 7428491 | 硬化性組成物、硬化物、及び絶縁膜の形成方法 | 2024年 2月 6日 | |
| 特許 7428777 | 表面処理方法、表面処理剤、及び基板上に領域選択的に製膜する方法 | 2024年 2月 6日 | |
| 特許 7422532 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 1月26日 | |
| 特許 7421186 | 感エネルギー性組成物、硬化物、及びパターン形成方法 | 2024年 1月24日 | |
| 特許 7419097 | 硬化性組成物、硬化物、近赤外線吸収フィルタ、硬化物の製造方法、近赤外線吸収フィルタの製造方法、硬化性組成物の低温保管方法、硬化性組成物の輸送方法、及び硬化性組成物の提供方法 | 2024年 1月22日 | |
| 特許 7419255 | 表面処理液、表面処理方法、及び表面処理されたロール状シートの製造方法 | 2024年 1月22日 | |
| 特許 7418488 | レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 | 2024年 1月19日 | |
| 特許 7414457 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 1月16日 | |
| 特許 7414503 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 1月16日 | |
| 特許 7414926 | 化合物 | 2024年 1月16日 | |
| 特許 7412915 | 保護膜形成剤、及び半導体チップの製造方法 | 2024年 1月15日 | |
| 特許 7413369 | 含ケイ素ポリマー、膜形成用組成物、含ケイ素ポリマー被膜の形成方法、シリカ系被膜の形成方法、及び含ケイ素ポリマーの製造方法 | 2024年 1月15日 |
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7433275 7433394 7428478 7428491 7428777 7422532 7421186 7419097 7419255 7418488 7414457 7414503 7414926 7412915 7413369
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