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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第253位 138件 (2023年:第318位 109件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第258位 123件 (2023年:第281位 118件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7553292 | 基板加熱装置および基板処理システム | 2024年 9月18日 | |
特許 7550674 | レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 | 2024年 9月13日 | |
特許 7547189 | 表面処理剤、表面処理方法及び基板表面の領域選択的製膜方法 | 2024年 9月 9日 | |
特許 7546353 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 9月 6日 | |
特許 7546395 | 中空構造体の製造方法、及び中空パッケージの製造方法 | 2024年 9月 6日 | |
特許 7542343 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 8月30日 | |
特許 7542653 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 8月30日 | |
特許 7541306 | 相分離構造形成用樹脂組成物、相分離構造を含む構造体の製造方法、及びブロックコポリマー | 2024年 8月28日 | |
特許 7539953 | 撥液処理剤、及び被処理体の位置選択的撥液化方法 | 2024年 8月26日 | |
特許 7539226 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2024年 8月23日 | |
特許 7538890 | 重合性組成物、及び素子が搭載された基板の製造方法 | 2024年 8月22日 | |
特許 7535931 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 | 2024年 8月19日 | |
特許 7534352 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 | 2024年 8月14日 | |
特許 7531328 | 接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法、及び電子部品の製造方法 | 2024年 8月 9日 | |
特許 7531343 | ルテニウム配線の製造方法 | 2024年 8月 9日 |
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7553292 7550674 7547189 7546353 7546395 7542343 7542653 7541306 7539953 7539226 7538890 7535931 7534352 7531328 7531343
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1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
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1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
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