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東京応化工業株式会社
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第257位 38件
（
2024年：第253位 138件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第345位 23件
（2024年：第258位 123件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京応化工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7627132 | 化学増幅型ポジ型感光性組成物、感光性ドライフィルム、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法 | 2025年 2月 5日 | |
| 特許 7627232 | 保護膜形成剤、及び半導体チップの製造方法 | 2025年 2月 5日 | |
| 特許 7624839 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2025年 1月31日 | |
| 特許 7624882 | エッチング液、エッチング液の製造方法、被処理体の処理方法、及びルテニウム含有配線の製造方法 | 2025年 1月31日 | |
| 特許 7621072 | 中空構造体の製造方法、及び中空パッケージの製造方法 | 2025年 1月24日 | |
| 特許 7621323 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び酸拡散制御剤 | 2025年 1月24日 | |
| 特許 7614747 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 | 2025年 1月16日 | |
| 特許 7614924 | ナノインプリント用組成物及びパターン形成方法 | 2025年 1月16日 | |
| 特許 7611887 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 | 2025年 1月10日 |
24 件中 16-24 件を表示
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7627132 7627232 7624839 7624882 7621072 7621323 7614747 7614924 7611887
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